[發(fā)明專利]噴嘴清洗裝置、分注裝置、分析裝置、噴嘴的清洗方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810648378.0
• 申請日: 2018-06-22
• 公開（公告）號: CN109142774B
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 太田進一
• 申請（專利權(quán)）人: 愛科來株式會社
• 主分類號: G01N35/10
• 分類號: G01N35/10
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 黃綸偉;金玲

噴嘴清洗裝置、分注裝置、分析裝置、噴嘴的清洗方法。減少噴嘴的清洗液的消耗量、清洗的所需時間。采集檢體的噴嘴清洗裝置(20)，其具備：清洗槽(41)，其收納噴嘴(10)；第一排出口(42A)，其從清洗槽(41)的上部排出供給到清洗槽(41)內(nèi)的清洗液；第二排出口(42B)，其從清洗槽(41)的低于第一排出口的位置排出供給到清洗槽(41)內(nèi)的清洗液；檢測部，其檢測噴嘴(10)的外壁與檢體接觸的范圍；控制部，其根據(jù)由檢測部檢測的檢測結(jié)果，從第一排出口(42A)及第二排出口(42B)的任一個排出口排出供給到清洗槽(41)內(nèi)的清洗液。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及噴嘴清洗裝置、具備噴嘴清洗裝置的分注裝置和具備噴嘴清洗裝置的分析裝置及噴嘴的清洗方法。

背景技術(shù)

以往，存在具備采集檢體的噴嘴的分析裝置(例如，參照專利文獻1)。通過檢體的采集，檢體接觸噴嘴的內(nèi)部及外壁而被污染，因此在采集檢體之后對噴嘴的內(nèi)部及外壁進行清洗。例如，在專利文獻1所記載的檢查裝置中，將整個噴嘴放入清洗槽，將清洗液從噴嘴吐出到清洗槽內(nèi)而對內(nèi)部進行清洗，并且通過負壓而從清洗槽的上部吸引吐出到清洗槽內(nèi)的清洗液，從而對噴嘴的外壁進行清洗。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1日本特開2000-321270號公報

但是，在以往技術(shù)中，通過負壓而從設(shè)于清洗槽的上部的排出口排出從噴嘴吐出到清洗槽內(nèi)的清洗液。

另外，在檢體的采集中，根據(jù)檢體的量少的情況或從檢體的液面附近采集檢體等的檢體的狀況或檢體的采集方法，在噴嘴的外壁的前端部會附著檢體，但在噴嘴的外壁的上部有時不會附著檢體。但是，在上述的清洗槽的結(jié)構(gòu)上，即便在被檢體污染的噴嘴的外壁的范圍限于噴嘴的前端部，但供給到清洗槽的清洗液的量、清洗時間是固定的。由此，導致清洗液、清洗時間的浪費。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是鑒于如上述的問題而研發(fā)的，其目的在于減少噴嘴的清洗液的消耗量、清洗的所需時間。

本發(fā)明的一個方式為采集檢體的噴嘴清洗裝置。該噴嘴清洗裝置具備：清洗槽，其收納用于采集檢體的噴嘴；第一排出口，其從所述清洗槽的上部排出供給到所述清洗槽內(nèi)的清洗液；第二排出口，其從所述清洗槽的低于所述第一排出口的位置排出供給到所述清洗槽內(nèi)的清洗液；檢測部，其檢測所述噴嘴的外壁與所述檢體接觸的范圍；控制部，其根據(jù)由所述檢測部檢測的檢測結(jié)果，從所述第一排出口及所述第二排出口的一個排出口排出供給到所述清洗槽內(nèi)的清洗液。

并且，還具備：第一開閉閥，其開閉所述第一排出口；第二開閉閥，其開閉所述第二排出口，所述控制部根據(jù)由所述檢測部檢測的檢測結(jié)果來切換所述第一開閉閥和/或所述第二開閉閥的開閉。

并且，所述檢測部根據(jù)所述檢體的量及所述噴嘴采集所述檢體時的移動量的至少一個來檢測所述噴嘴的外壁與所述檢體接觸的范圍。

并且，在所述噴嘴的外壁與所述檢體接觸的范圍小于規(guī)定范圍的情況下，清洗裝置中的所述控制部選擇所述第二排出口，在所述噴嘴的外壁與所述檢體接觸的范圍不小于規(guī)定范圍的情況下，所述控制部選擇所述第一排出口。

并且，本發(fā)明的方式包括具備上述噴嘴清洗裝置的分注裝置、分析裝置，或者，與上述清洗裝置、分注裝置及分析裝置分別對應(yīng)的方法的發(fā)明。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，能夠減少噴嘴的清洗液的消耗量、清洗的所需時間。

附圖說明

圖1是表示實施方式的分析裝置的概略結(jié)構(gòu)的立體圖。

圖2是表示噴嘴清洗裝置的清洗槽的概略結(jié)構(gòu)的圖。

圖3是分析裝置中的清洗裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。

圖4是實施方式的控制系統(tǒng)的框圖。