[發明專利]天線及等離子體處理裝置

有效

• 申請號: 201810642400.0
• 申請日: 2018-06-21
• 公開（公告）號: CN109121276B
• 公開（公告）日: 2021-10-12
• 發明（設計）人: 河田祐紀;小山纮司
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H05H1/24
• 分類號: H05H1/24
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 安香子

1.一種天線，其具備電介質窗及設置于所述電介質窗的一個面的縫隙板，該天線的特征在于，

在所述電介質窗設有多個凹部，

所述縫隙板上，在包圍所述縫隙板的中央的虛擬圓上設定多個虛擬點，并設定包圍各虛擬點的周圍的虛擬環狀線，將沿各虛擬環狀線配置4個以上的縫隙而成的集合作為縫隙組時，

在各縫隙組中，

在從所述縫隙板的厚度方向觀察的情況下，各個所述凹部的重心與作為所述縫隙組各自的重心的各個所述虛擬點的位置一致，

將各縫隙的寬度方向的中央位置并且長度方向的中央位置作為基準位置時，

各縫隙的所述基準位置位于所述虛擬環狀線上，

連結各縫隙的所述基準位置與這些縫隙所屬的所述虛擬點的線段從所述虛擬點以放射狀存在，且相鄰的這些線段之間的角度相等，并且，

所述基準位置上的各縫隙的長度方向與該縫隙所屬的所述線段所成的角度相等，且在將該角度設為θ時，滿足45°＜θ≤90°。

2.根據權利要求1所述的天線，其特征在于，

所述縫隙的形狀為使長度方向的朝向不變而以直線狀延伸的形狀。

3.根據權利要求2所述的天線，其特征在于，

所述縫隙的形狀為長方形或長孔形狀。

4.根據權利要求1所述的天線，其特征在于，

所述縫隙的形狀為圓弧形狀。

5.一種等離子體處理裝置，其具備：

權利要求1所述的天線；

處理容器，安裝有所述天線；

工作臺，設置于所述處理容器的內部且與所述電介質窗對置并載置待處理的基板；及

微波產生器，向所述天線供給微波。

6.一種等離子體處理裝置，其具備：

權利要求2所述的天線；

處理容器，安裝有所述天線；

工作臺，設置于所述處理容器的內部且與所述電介質窗對置并載置待處理的基板；及

微波產生器，向所述天線供給微波。

7.一種等離子體處理裝置，其具備：

權利要求3所述的天線；

處理容器，安裝有所述天線；

工作臺，設置于所述處理容器的內部且與所述電介質窗對置并載置待處理的基板；及

微波產生器，向所述天線供給微波。

8.一種等離子體處理裝置，其具備：

權利要求4所述的天線；

處理容器，安裝有所述天線；

工作臺，設置于所述處理容器的內部且與所述電介質窗對置并載置待處理的基板；及

微波產生器，向所述天線供給微波。