[發明專利]一種發光二極管外延片及其制備方法有效
| 申請號: | 201810634505.1 | 申請日: | 2018-06-20 |
| 公開(公告)號: | CN109065678B | 公開(公告)日: | 2020-04-10 |
| 發明(設計)人: | 洪威威;王倩;周飚;胡加輝 | 申請(專利權)人: | 華燦光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/06 | 分類號: | H01L33/06;H01L33/12;H01L33/14;H01L33/32;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
| 地址: | 430223 湖北省*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 發光二極管 外延 及其 制備 方法 | ||
1.一種發光二極管外延片,所述外延片包括襯底及依次層疊設置在所述襯底上的AlN緩沖層、低溫GaN緩沖層、未摻雜GaN層、N型GaN層、有源層及P型GaN層,其特征在于,
所述有源層包括交替層疊的壘層與阱層,所述阱層包括InGaN阱層,所述壘層包括依次層疊的InxGa1-xN子壘層、AlaInyN子壘層、AlbGa1-b-zInzN子壘層、AlcGa1-cN子壘層、AlbGa1-b-zInzN子壘層、AlaInyN子壘層、InxGa1-xN子壘層,其中,0<x<1,0<y<0.5,0<z<0.5,0.5<a<1,0.5<b<1,0<c<1,a與y的關系滿足公式:a+y=1。
2.根據權利要求1所述的外延片,其特征在于,0<x<1,0<y<0.3,0<z<0.3,0.7<a<1,0.7<b<1,0<c<1。
3.根據權利要求1或2所述的外延片,其特征在于,x>y>z,a<b<c。
4.根據權利要求3所述的外延片,其特征在于,a、b、c之間的關系滿足公式:b-a=c-b。
5.根據權利要求4所述的外延片,其特征在于,(b-a)/a=d,其中,1.2≤d≤1.5。
6.根據權利要求3所述的外延片,其特征在于,x、y、z之間的關系滿足公式:x-y=y-z。
7.根據權利要求6所述的外延片,其特征在于,(x-y)/x=k,其中,0.7≤k≤0.8。
8.一種發光二極管外延片的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:
提供一襯底;
在所述襯底上生長AlN緩沖層;
在AlN緩沖層上生長低溫GaN緩沖層;
在所述低溫GaN緩沖層上生長未摻雜GaN層;
在所述未摻雜GaN層上生長N型GaN層;
在所述N型GaN層上生長有源層;
在所述有源層上生長P型GaN層,
其中,有源層包括交替層疊的壘層與阱層,所述阱層包括InGaN阱層,所述壘層包括依次層疊的InxGa1-xN子壘層、AlaInyN子壘層、AlbGa1-b-zInzN子壘層、AlcGa1-cN子壘層、AlbGa1-b-zInzN子壘層、AlaInyN子壘層、InxGa1-xN子壘層,其中,0<x<1,0<y<0.5,0<z<0.5,0.5<a<1,0.5<b<1,0<c<1,a與y的關系滿足公式:a+y=1。
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