[發明專利]膜層厚度測量方法及膜層厚度測量裝置

有效

• 申請號: 201810634417.1
• 申請日: 2018-06-20
• 公開（公告）號: CN108981624B
• 公開（公告）日: 2020-07-24
• 發明（設計）人: 劉公才
• 申請（專利權）人: 長江存儲科技有限責任公司
• 主分類號: G01B15/02
• 分類號: G01B15/02;G06T7/00;G06T7/13;G06T7/62
• 代理公司: 上海盈盛知識產權代理事務所(普通合伙) 31294
• 代理人: 董琳;陳麗麗

1.一種膜層厚度測量方法，其特征在于，包括如下步驟：

提供一圖像，所述圖像為兩個以上同軸嵌套的膜層的截面圖，所述截面圖顯示有按序排列的若干膜層截面；

選擇一待測量膜層的膜層截面，所述待測量膜層的膜層截面包括相對的第一邊界和第二邊界；

獲取所述第一邊界的第一骨架線；

采用第一邊緣檢測算法檢測所述第一邊界的邊緣，形成多個離散的第一區域，所述第一邊緣檢測算法根據待測量膜層的物理性質、位于所述待測量膜層內側的膜層的物理性質設置；

獲取若干個所述第一區域與所述第一骨架線之間的距離；

連通所述距離小于第一預設值的多個第一區域，構成第一輪廓；

采用第二邊緣檢測算法獲取所述第二邊界的第二輪廓，所述第二邊緣檢測算法根據待測量膜層的物理性質、位于所述待測量膜層外側的膜層的物理性質設置；

計算所述第一輪廓中的多個像素點到所述第二輪廓的垂直距離，得到所述待測量膜層的厚度。

2.根據權利要求1所述的膜層厚度測量方法，其特征在于，還包括如下步驟：

獲取若干個所述第一區域與所述第一骨架線之間的距離以及若干個所述第一區域相互之間的形貌特征相似度；

連通距離小于第一預設值且形貌特征相似度大于第二預設值的多個第一區域，構成所述第一輪廓。

3.根據權利要求1所述的膜層厚度測量方法，其特征在于，連通所述距離小于第一預設值的多個第一區域，構成所述第一輪廓的具體步驟包括：

連通所述距離小于第一預設值的多個第一區域，得到多個輪廓區域；

計算每一輪廓區域的長度，并以長度最大的輪廓區域作為所述第一輪廓。

4.根據權利要求1所述的膜層厚度測量方法，其特征在于，計算所述第一輪廓中的多個像素點到所述第二輪廓的垂直距離的具體步驟包括：

獲取所述第一輪廓中多個亞像素點的位置信息；

計算所述第一輪廓中的多個亞像素點到所述第二輪廓的垂直距離。

5.根據權利要求4所述的膜層厚度測量方法，其特征在于，獲取的所述第一輪廓中亞像素點的數量在1500個以上。

6.根據權利要求1所述的膜層厚度測量方法，其特征在于，所述圖像還包括位于所述待測量膜層外側的第一膜層的膜層截面，所述第一膜層的膜層截面包括與所述第二邊界接觸的第三邊界以及與所述第三邊界相對的第四邊界；

采用第三邊緣檢測算法獲取所述第四邊界的第三輪廓，所述第三邊緣檢測算法根據第一膜層的物理性質、位于所述第一膜層外側的膜層的物理性質設置；

計算所述第二輪廓中的多個像素點到所述第三輪廓的垂直距離，得到所述第一膜層的厚度。

7.根據權利要求6所述的膜層厚度測量方法，其特征在于，所述圖像為3DNAND存儲器中的NAND串的橫截面圖像，包括由內至外同軸嵌套的溝道層、隧道層、電荷捕獲層和阻擋層的橫截面；

所述待測量膜層、所述第一膜層為所述溝道層、所述隧道層、所述電荷捕獲層、所述阻擋層中的任意相鄰的兩個膜層。

8.根據權利要求7所述的膜層厚度測量方法，其特征在于，所述第一邊緣檢測算法、所述第二邊緣檢測算法和所述第三邊緣檢測算法均為Lanser邊緣檢測算法、Deriche邊緣檢測算法以及Canny邊緣檢測算法中的一種或幾種。