[發(fā)明專利]原子蒸汽的熱屏蔽結(jié)構(gòu)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810633679.6
• 申請(qǐng)日: 2018-06-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108977668A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 閆超;羅立平;趙國(guó)華;劉歡
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 核工業(yè)理化工程研究院
• 主分類號(hào): C22B9/04
• 分類號(hào): C22B9/04
• 代理公司: 天津創(chuàng)智天誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 12214
• 代理人: 李薇;田陽(yáng)

本發(fā)明公開(kāi)了一種原子蒸汽的熱屏蔽結(jié)構(gòu)，包括U形結(jié)構(gòu)的殼體和設(shè)置在所述殼體內(nèi)的隔熱片，所述殼體包括依次連接的左側(cè)臂、連接臂和右側(cè)臂，所述左側(cè)臂、右側(cè)臂之間形成供原子蒸汽穿過(guò)的通道；所述隔熱片包括設(shè)置在所述左側(cè)臂和右側(cè)臂內(nèi)的縱向插片和設(shè)置在所述連接臂內(nèi)的橫向插片。具有隔熱效果好，真空度高的優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及材料科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種原子蒸汽的熱屏蔽結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的真空金屬冶煉工藝中，原子蒸汽整形裝置可以為原子蒸汽提供限流作用，使原子蒸汽按照一定的軌跡運(yùn)動(dòng)。但蒸發(fā)到原子蒸汽整形裝置內(nèi)表面的金屬蒸汽，在長(zhǎng)時(shí)間累積下會(huì)形成一定的金屬堆積，因此需要控制原子蒸汽整形裝置本身熱量的散失，來(lái)保證原子蒸汽整形裝置處在一定的溫度場(chǎng)當(dāng)中，使得蒸鍍到原子蒸汽整形裝置內(nèi)壁表面的金屬堆積可以處在熔融態(tài)，沿著原子蒸汽整形裝置內(nèi)壁回流到坩堝熔池當(dāng)中。導(dǎo)熱率很低的陶瓷材料成為熱屏蔽結(jié)構(gòu)的首選，但陶瓷材料本身不抗沖擊、易損耗，以及多孔結(jié)構(gòu)，會(huì)影響到真空容器的真空度。會(huì)對(duì)整個(gè)設(shè)備的可靠性產(chǎn)生影響，存在一定的安全隱患。

現(xiàn)有結(jié)構(gòu)的原子蒸汽整形裝置熱屏蔽結(jié)構(gòu)如圖1所示，由鉭外殼包裹陶瓷隔熱塊構(gòu)成，所述陶瓷隔熱塊是由三部分拼接成U形結(jié)構(gòu)，內(nèi)嵌在鉭外殼內(nèi)。所述鉭外殼包括由U形結(jié)構(gòu)的側(cè)壁板11、設(shè)置在側(cè)壁板11底部的U形結(jié)構(gòu)的底板12、設(shè)置在側(cè)壁板11頂部的U形結(jié)構(gòu)的頂板12和設(shè)置在底板12內(nèi)側(cè)的翻折邊14，陶瓷隔熱塊的內(nèi)壁直接與原子蒸汽相接觸，密封性差強(qiáng)人意。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)缺陷，而提供一種原子蒸汽的熱屏蔽結(jié)構(gòu)，采用插片的結(jié)構(gòu)，熱屏蔽效果好，而且避免了材料本身對(duì)于真空度的影響。

為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的所采用的技術(shù)方案是：

本發(fā)明的一種原子蒸汽的熱屏蔽結(jié)構(gòu)，包括U形結(jié)構(gòu)的殼體和設(shè)置在所述殼體內(nèi)的多層隔熱片，所述殼體包括依次連接的左側(cè)臂、連接臂和右側(cè)臂，所述左側(cè)臂、右側(cè)臂之間形成供原子蒸汽穿過(guò)的通道；所述隔熱片包括設(shè)置在所述左側(cè)臂和右側(cè)臂內(nèi)的縱向插片和設(shè)置在所述連接臂內(nèi)的橫向插片。

在上述技術(shù)方案中，所述縱向插片設(shè)有4-5片，所述橫向插片設(shè)有3-4片。所述縱向插片的片數(shù)大于所述橫向插片的片數(shù)，以提高熱屏蔽效果。

在上述技術(shù)方案中，所述殼體的材質(zhì)為金屬鉭，所述隔熱片的材質(zhì)為金屬鉬。

在上述技術(shù)方案中，所述隔熱片活動(dòng)設(shè)置在殼體內(nèi)。

在上述技術(shù)方案中，所述隔熱片插接在形成于殼體內(nèi)壁上的插槽內(nèi)。

在上述技術(shù)方案中，所述殼體包括底座和活動(dòng)設(shè)置在底座頂端的蓋板構(gòu)成，所述蓋板的底面和所述底座的底面上設(shè)有用于插接所述隔熱片的插槽。

在上述技術(shù)方案中，所述蓋板的內(nèi)側(cè)邊緣與所述底座的內(nèi)側(cè)板相對(duì)齊，所述蓋板的外側(cè)邊緣突出于所述底座的外側(cè)板。

在上述技術(shù)方案中，所述隔熱片上設(shè)有螺孔，以將隔熱片螺接在所述底座上。

在上述技術(shù)方案中，所述底座和隔熱片相對(duì)應(yīng)的位置設(shè)有用于固定熱電偶的固定孔，所述熱電偶通過(guò)螺紋固定在所述熱屏蔽結(jié)構(gòu)上，用于檢測(cè)原子蒸汽整形裝置表面的溫度。

在上述技術(shù)方案中，所述殼體包括呈U形結(jié)構(gòu)的底座和設(shè)置在底座頂端的蓋板，所述蓋板包括左側(cè)臂蓋板、右側(cè)臂蓋板和連接臂蓋板。

在上述技術(shù)方案中，所述左側(cè)臂蓋板、右側(cè)臂蓋板和連接臂蓋板上設(shè)有用于插接定位銷的定位筒，所述縱向插片上與所述定位筒相對(duì)應(yīng)的位置上設(shè)有缺口。

在上述技術(shù)方案中，所述殼體的底端為平面結(jié)構(gòu)，所述殼體的頂端設(shè)有與連接設(shè)備相匹配的凹槽。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：