[發(fā)明專利]熔煉放射性金屬用小口徑石墨坩堝防護涂層的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810632516.6 | 申請日: | 2018-06-19 |
| 公開(公告)號: | CN108754390B | 公開(公告)日: | 2020-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 于月光;侯偉驁;劉建明;沈婕;黃凌峰;彭浩然;冀曉鵑;章德銘 | 申請(專利權(quán))人: | 北京礦冶科技集團有限公司;北礦新材科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C4/129 | 分類號: | C23C4/129;C23C4/11;C23C4/08;C23C4/02;C23C4/18 |
| 代理公司: | 北京華仁聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11588 | 代理人: | 尹春雷 |
| 地址: | 100160 北京市豐臺區(qū)*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 熔煉 放射性 金屬 小口徑 石墨 坩堝 防護 涂層 制備 方法 | ||
1.熔煉放射性金屬用小口徑石墨坩堝防護涂層的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)對坩堝無涂層區(qū)域進行保護,采用精密內(nèi)孔吹砂技術(shù)對坩堝內(nèi)壁進行粗化處理;
(2)采用高壓二氧化碳清潔技術(shù),對粗化處理后的坩堝內(nèi)壁進行清潔干燥處理;
(3)采用火焰噴槍噴涂純鉬條棒,制備底層;
(4)采用火焰噴槍噴涂陶瓷條棒,制備面層;所使用的陶瓷條棒,是微晶高純YSZ陶瓷條棒,純度>99.5%,內(nèi)部顆粒尺寸5~100nm;
(5)采用激光致密化技術(shù)對涂層表面進行致密化處理;
(6)去除步驟(1)的保護措施,完成防護涂層的制備。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)所使用的純鉬條棒,純度>99.0%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)采用壓入式內(nèi)孔吹砂槍對坩堝內(nèi)表面進行近距離、低壓力、小束流吹砂,吹砂后表面粗糙度8~15μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,吹砂操作參數(shù)為:采用電熔破碎的白剛玉砂或棕剛玉砂,粒度分布為60~150目,吹砂壓強為0.5~2atm,吹砂角度為60~80°,吹砂距離為50~150mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)采用含二氧化碳的高壓壓縮空氣流對坩堝內(nèi)表面進行快速清潔干燥處理,二氧化碳質(zhì)量分數(shù)50%~80%,入口壓強10~15atm,溫度20~40℃,流量50~150L/min。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)噴涂參數(shù)為:氧氣壓力1.0~1.5MPa,乙炔壓力0.8~1.1MPa,壓縮空氣壓力0.6~0.8MPa,送絲電壓10~15V,噴涂距離150~350mm,涂層厚度0.05~0.15mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(4)噴涂參數(shù)為:氧氣壓力1.0~1.5MPa,乙炔壓力0.8~1.1MPa,壓縮空氣壓力0.6~0.8MPa,送絲電壓8~13V,噴涂距離150~270mm,涂層厚度0.2~1.0mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)和步驟(4),在噴涂過程中通過壓縮空氣對工件表面進行強制冷卻,使基體溫度維持在200℃±20℃。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(5)所述激光致密化技術(shù),采用內(nèi)孔激光熱處理槍或者內(nèi)孔激光熔覆噴槍對涂層表面進行快速致密化處理,光斑尺寸1~3mm,輸入功率200~2000W,致密化層深度0.05~0.2mm。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理,例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





