[發明專利]一種導電聚合物薄膜及其圖案化制作方法和應用

在審

• 申請號: 201810631939.6
• 申請日: 2018-06-19
• 公開（公告）號: CN108922656A
• 公開（公告）日: 2018-11-30
• 發明（設計）人: 王旭華
• 申請（專利權）人: 九睿海創（深圳）科技有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B13/00
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 唐致明

1.一種導電聚合物薄膜的圖案化制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)在襯底上涂覆氧化劑涂層；

2)施加光源對所述氧化劑涂層進行光輻射，在所述光源與所述氧化劑涂層之間設置掩模板，所述掩模板包括透光部分和不透光部分，所述光源通過所述透光部分照射到所述氧化劑涂層上，以破壞所述透光部分對應的氧化劑涂層，形成圖案化氧化劑涂層；

3)將所述圖案化氧化劑涂層與聚合物單體發生聚合反應，形成導電聚合物薄膜；

在步驟1)中，所述氧化劑涂層由混合物構成，所述混合物按重量百分數計包括10％～30％氧化劑、60％～90％有機溶劑和和0.001％～10％摻雜劑；所述摻雜劑選自聚乙二醇、聚丙二醇和聚乙二醇的聚合物，聚乙烯和聚乙二醇的聚合物，聚乙烯和聚乙烯二醇的聚合物中的至少一種；

在步驟3)中，所述聚合物單體選自順式或反式聚乙炔、聚噻吩、聚二乙炔、聚對苯撐、聚吡咯、聚二噻吩、聚異噻吩、聚苯基乙烯、聚噻吩基乙烯、聚苯硫醚、聚苯胺及上述聚合物單體的衍生物中的至少一種。

2.根據權利要求1所述的導電聚合物薄膜的圖案化制作方法，其特征在于，所述氧化劑選自三價鐵鹽、二價銅鹽、三價鎳鹽、高碘酸鹽、次氯酸鹽、H₂PtCl₅·6H₂O、Na₂PdCl₄、AuCl₃、HAuCl₄.4H₂O、AgNO₃、MnO₂中的至少一種。

3.根據權利要求1所述的導電聚合物薄膜的圖案化制作方法，其特征在于，所述有機溶劑選自醇類、苯類中的至少一種。

4.根據權利要求1所述的導電聚合物薄膜的圖案化制作方法，其特征在于，在步驟2)中，所述光輻射為采用紫外輻射。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的導電聚合物薄膜的圖案化制作方法，其特征在于，還包括步驟4)：利用溶劑漂洗，以除去已被破壞的氧化劑涂層和/或未參與聚合反應的氧化劑涂層。

6.一種導電聚合物薄膜，其特征在于，所述導電聚合物薄膜由權利要求1-5中任一項所述導電聚合物薄膜的圖案化制作方法制得。

7.權利要求6所述的導電聚合物薄膜在制作光電子器件電極中的應用。