[發明專利]一種用于太赫茲光譜測量的樣品研磨裝置

在審

• 申請號: 201810629782.3
• 申請日: 2018-06-19
• 公開（公告）號: CN108535210A
• 公開（公告）日: 2018-09-14
• 發明（設計）人: 李斌;張永珍;羅長海;陳怡每
• 申請（專利權）人: 北京農業信息技術研究中心
• 主分類號: G01N21/3563
• 分類號: G01N21/3563;G01N21/3581
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;吳歡燕

本發明涉及樣品研磨技術領域，尤其涉及一種用于太赫茲光譜測量的樣品研磨裝置。該用于太赫茲光譜測量的樣品研磨裝置包括箱體、研磨機構、數據測量采集機構和智能驅動執行機構，所述研磨機構包括自動伸縮桿、固定桿、兩個研磨球和研磨槽，所述固定桿與所述自動伸縮桿轉動連接，所述固定桿上設有紅外傳感器和轉速傳感器，所述數據測量采集機構包括環境信息測量機構和樣品信息測量機構，所述智能驅動執行機構包括變溫控制機構、換氣控制機構、報警控制機構和烘干控制機構。本發明所述的用于太赫茲光譜測量的樣品研磨裝置，能夠減少樣品在研磨過程中受影響因素的干擾，獲得樣品最佳研磨結果，為后續樣品壓片的制備和測量實驗提供源頭保障。

技術領域

本發明涉及樣品研磨技術領域，尤其涉及一種用于太赫茲光譜測量的樣品研磨裝置。

背景技術

太赫茲波(Terahertz,1THz＝1012Hz)是對一個特定波段的電磁福射的統稱，頻率在0.1～10THz，波長為3mm～30um，波數是3.3～330cm^-1。在電磁波譜中，太赫茲波位于微波和紅外福射之間，是電子學向光子學過渡的特殊區域，也是宏觀經典理論向微觀量子理論的過渡區域。太赫茲波的一個顯著特點是與水強烈相互作用。由于太赫茲波對水分子響應的高靈敏度，有些研究小組嘗試運用太赫茲技術測量水分子在生物樣品中的存在含量及其存在形式，取得了較好的結果。正是太赫茲波與水的高靈敏度互作特性，在使用太赫茲技術進行樣品定性定量理化性質測試時，由于實驗環境及樣品本身水分的存在，可能會造成實驗的誤差甚至可能造成實驗的失敗。因此，在使用太赫茲技術進行實驗時，從樣品采集、制備到樣品測試完成的全過程，每個環節都需要盡可能排除水分子的存在，以免對實驗造成不良的影響。

而在實驗制備樣品壓片前，首先第一步就是進行固體樣品的研磨。樣品顆粒的粒徑大小及均勻度會直接影響樣品的數據采集結果。研磨不充分，會在測量時造成散射，直接影響到獲取太赫茲光譜的有效性。

目前，大多數實驗制樣時，只是將樣品直接進行人工研磨，盡可能做到研磨充分，然而每次研磨的顆粒大小會因操作人員的不同而造成差異，并沒有指定的標準。有些樣品在研磨過程中還會受到光照、氧氣等周圍環境的影響而變質。現有的樣品研磨裝置，主要是為了研磨，對于研磨過程中，樣品的其他參數并不監控，比較成熟的裝置尚缺乏。因此，急需一種貫穿整個研磨階段，既可對空氣濕度、光照等研磨環境參數進行實時測控，又可對所研磨樣品含水量、粒徑大小、均勻度等參數進行實時測控的裝置和調控策略方法，從源頭保障樣品制備壓片前整個研磨階段的用于太赫茲數據準確測量的樣品理化屬性。

發明內容

(一)要解決的技術問題

本發明的目的是提供一種用于太赫茲光譜測量的樣品研磨裝置，能夠在樣品研磨過程中實時監測環境信息以及樣品信息，減少樣品在研磨制作過程中受影響因素的干擾，提高樣品研磨質量。

(二)技術方案

為了解決上述技術問題，本發明提供了一種用于太赫茲光譜測量的樣品研磨裝置，包括箱體、設置在所述箱體中的研磨機構、以及分別設置在所述箱體上的數據測量采集機構、智能驅動執行機構和主控機構；其中所述研磨機構包括自動伸縮桿、與所述自動伸縮桿垂直連接的固定桿、分別與所述固定桿的兩端對應連接的兩個研磨球以及設置在所述研磨球下方的研磨槽，所述固定桿與所述自動伸縮桿轉動連接；所述數據測量采集機構包括環境信息測量機構和樣品信息測量機構；所述智能驅動執行機構包括變溫控制機構、換氣控制機構、報警控制機構和烘干控制機構；所述數據測量采集機構與所述主控機構電性連接，所述主控機構與所述智能驅動執行機構電性連接。

進一步地，所述研磨球通過懸掛連接組件與所述固定桿相連；所述懸掛連接組件包括懸吊桿、水平桿、兩個豎直桿以及連接軸，其中所述懸吊桿的上端與所述固定桿相連，所述懸吊桿的下端與所述水平桿相連，所述水平桿的兩端分別對應連接兩個所述豎直桿，兩個所述豎直桿分別與所述連接軸的兩端對應連接，所述研磨球轉動安裝在所述連接軸上。