[發明專利]一種高光耐刮膜及其面膜的制備方法

在審

• 申請號: 201810613298.1
• 申請日: 2018-06-14
• 公開（公告）號: CN108485554A
• 公開（公告）日: 2018-09-04
• 發明（設計）人: 鄧軍建;鄧制軍;屈航
• 申請（專利權）人: 無錫特麗斯新材料科技有限公司
• 主分類號: C09J7/29
• 分類號: C09J7/29;C09J7/24;C09D175/14;C09D7/47;C08J7/04;C08L27/06
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務所 32237
• 代理人: 賀翔

1.一種高光耐刮膜，其特征在于，從上至下依次為納米涂層、水性油墨層、PVC印刷底膜、水性背膠層，其特征在于，所述納米涂層與水性油墨層之間設有高光耐刮面膜。

2.根據權利要求1所述的高光耐刮膜，其特征在于，所述高光耐刮面膜以透明片為基材，基材表面從下至上依次為附著層、透明層；所述透明層涂料包括以下組分質量比：10%-30%的活性稀釋劑、20%-50%的軟組分、30%-60%的硬組分、2%-5%的光引發劑、0.1%-1%的流平劑。

3.根據權利要求2所述的高光耐刮膜，其特征在于，所述軟組分為軟聚氨脂丙烯酸脂，所述硬組分為硬聚氨脂丙烯酸脂，所述光引發劑為紫外光活性光引發劑，所述流平劑為反應性硅氧烷，所述活性稀釋劑為1,6-乙二醇二丙烯酸脂或丙烯酰馬琳。

4.根據權利要求3所述的高光耐刮膜，其特征在于，所述流平劑為含雙鍵的反應性硅氧烷。

5.一種高光耐刮面膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)取質量比為20%-50%的軟組分、30%-60%的硬組分、10%-30%的活性稀釋劑、0.1%-1%的流平劑混合均勻，邊攪拌邊依次加入質量比為2%-5%的光引發劑；

(2)對基材進行除塵，然后進行電暈處理，再將基材加溫燙平；

(3)在步驟(2)處理過的基材上涂布基底，再通過微凹精密涂布將步驟(1)混合均勻的涂料涂布在基底上層；

(4)將步驟(3)涂布后的基材在懸浮式烘箱中烘干，烘干溫度為40℃-70℃，然后再進行隔氧紫外固化，得到高光耐刮面膜。