[發(fā)明專利]基板處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810608818.X | 申請日: | 2014-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN108919607B | 公開(公告)日: | 2020-10-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鈴木智也;小宮山弘樹;加藤正紀(jì);渡邊智行;鬼頭義昭;堀正和;林田洋祐;木內(nèi)徹 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社尼康 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 陳偉;李文嶼 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 | ||
1.一種基板處理裝置,對沿長邊方向搬送的具有撓性的長尺寸片材基板進(jìn)行圖案曝光,其特征在于,所述基板處理裝置具有:
曝光單元,其具有旋轉(zhuǎn)滾筒和圖案形成部,所述旋轉(zhuǎn)滾筒以相對于旋轉(zhuǎn)軸為固定半徑的外周面將所述片材基板在長邊方向支承為圓筒面狀,并且所述旋轉(zhuǎn)滾筒繞所述旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)而沿長邊方向搬送所述片材基板,所述圖案形成部對在利用調(diào)整輥和張力輥賦予了規(guī)定張力的狀態(tài)下被支承于所述旋轉(zhuǎn)滾筒的外周面的所述片材基板進(jìn)行圖案曝光,所述調(diào)整輥和張力輥在所述片材基板的搬送方向上配置于所述旋轉(zhuǎn)滾筒的上游側(cè);
減振臺(tái),其載置有所述曝光單元地設(shè)置在地面上,以抑制來自所設(shè)置的所述地面的振動(dòng)傳遞到所述曝光單元;
位置調(diào)整單元,在所述片材基板的搬送方向上所述曝光單元的上游側(cè),所述位置調(diào)整單元設(shè)置于所述地面上,基于來自第1基板檢測部的變化信息而通過所述調(diào)整輥以將所述片材基板的寬度方向的位置保持于目標(biāo)位置的方式進(jìn)行調(diào)整,所述第1基板檢測部對朝向所述曝光單元搬出的所述片材基板在正交于所述長邊方向的寬度方向上的位置變化進(jìn)行計(jì)測;
相對位置檢測部,設(shè)定以與所述地面垂直的方向?yàn)閆軸、以與該Z軸正交且為所述片材基板的寬度方向的方向?yàn)閅軸、以與所述Z軸和所述Y軸分別正交的方向?yàn)閄軸的正交坐標(biāo)系時(shí),所述相對位置檢測部對所述曝光單元和所述位置調(diào)整單元在YZ平面和XZ平面的各個(gè)平面上的相對的位置變化進(jìn)行計(jì)測;和
控制裝置,其使用在所述相對位置檢測部計(jì)測出的位置變化的信息,控制所述位置調(diào)整單元,以使得將搬入所述曝光單元后的所述片材基板的寬度方向的位置相對于所述圖案形成部而保持于規(guī)定位置。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置,其特征在于,
所述相對位置檢測部具有第1檢測部和第2檢測部,所述第1檢測部對所述曝光單元和所述位置調(diào)整單元在所述YZ平面上的相對的位置變化進(jìn)行檢測,所述第2檢測部對所述曝光單元和所述位置調(diào)整單元在所述XZ平面上的相對的位置變化進(jìn)行檢測,
基于來自所述第1檢測部和所述第2檢測部各自的檢測信息,對所述曝光單元和所述位置調(diào)整單元的三維的相對位置變化進(jìn)行計(jì)測。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置,其特征在于,
所述曝光單元具有第2基板檢測部,所述第2基板檢測部檢測將要搬送到所述旋轉(zhuǎn)滾筒之前的所述片材基板在寬度方向上相對于所述旋轉(zhuǎn)滾筒的位置是否相對于目標(biāo)位置發(fā)生了變化,
所述控制裝置還使用由所述第2基板檢測部檢測到的變化信息來控制所述位置調(diào)整單元。
4.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置,其特征在于,
在所述片材基板的寬度方向的兩端部側(cè),沿著長邊方向以固定間隔形成有多個(gè)對準(zhǔn)標(biāo)記,
所述曝光單元具有以檢測所述對準(zhǔn)標(biāo)記的方式配置的多個(gè)對準(zhǔn)顯微鏡,所述對準(zhǔn)標(biāo)記形成在由所述旋轉(zhuǎn)滾筒的外周面支承的所述片材基板的部分上,
所述控制裝置還使用由所述多個(gè)對準(zhǔn)顯微鏡檢測出的所述對準(zhǔn)標(biāo)記的位置信息來控制所述位置調(diào)整單元。
5.如權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置,其特征在于,
所述調(diào)整輥和所述張力輥分別以使搬送來的所述片材基板的搬送路徑折曲的方式配置在所述旋轉(zhuǎn)滾筒的上游側(cè),
所述控制裝置基于來自所述第1基板檢測部的變化信息進(jìn)行控制,以使所述調(diào)整輥的旋轉(zhuǎn)軸或所述張力輥的旋轉(zhuǎn)軸從與所述旋轉(zhuǎn)滾筒的旋轉(zhuǎn)軸平行的狀態(tài)稍微傾斜。
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