[發明專利]泵浦探測系統有效
| 申請號: | 201810608559.0 | 申請日: | 2018-06-13 |
| 公開(公告)號: | CN108801915B | 公開(公告)日: | 2023-05-30 |
| 發明(設計)人: | 蘇紅;李臻元;王世興;龔海彬;張敏;梁華偉;李玲 | 申請(專利權)人: | 深圳大學 |
| 主分類號: | G01N21/01 | 分類號: | G01N21/01;G01N21/17 |
| 代理公司: | 深圳市精英專利事務所 44242 | 代理人: | 林燕云 |
| 地址: | 518000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 探測 系統 | ||
1.一種泵浦探測系統,其特征在于,包括:光學平臺以及設置在所述光學平臺上的激光器、載物裝置、控制設備、反射調節鏡、第一延時裝置、第二延時裝置、第一分光片、第二分光片、第三分光片、第一反射鏡、第二反射鏡、第三反射鏡、第四反射鏡、第一光闌、第二光闌、第三光闌、第四光闌、太赫茲發射裝置、太赫茲探測裝置、第一太赫茲反射鏡、第二太赫茲反射鏡和光功率計;
所述載物裝置用于放置待測樣品,所述載物裝置與所述控制設備電性連接,在所述控制設備的控制下將所述待測樣品移動至第一預設位置或第二預設位置;所述第一預設位置位于所述第一太赫茲反射鏡和第二太赫茲反射鏡之間,所述第二預設位置與所述光功率計相對應;
所述激光器發射的激光經過所述第一分光片分成相互垂直傳播的泵浦光和探測光;所述泵浦光通過所述第一延時裝置被反射至所述反射調節鏡,并通過所述反射調節鏡的調節將所述泵浦光反射至位于所述第一預設位置或第二預設位置的待測樣品上;
所述探測光經過所述第二分光片分成相互垂直傳播的透射探測光和太赫茲探測光,其中所述透射探測光通過所述第二延時裝置被發射至所述第一反射鏡,所述第一反射鏡將所述透射探測光反射至所述第三分光片;所述太赫茲探測光通過所述第二反射鏡反射至所述太赫茲探測裝置;
所述透射探測光經過所述第三分光片分成相互垂直傳播的樣品探測光和太赫茲泵浦光,其中所述樣品探測光經過所述第三反射鏡反射至位于所述第一預設位置的待測樣品,所述太赫茲泵浦光經過所述第四反射鏡反射至所述太赫茲發射裝置;所述光功率計用于測量透過所述待測樣品的樣品探測光;
其中,所述第一光闌位于所述第一分光片和第一延時裝置對應的光路之間,用于阻斷或導通所述泵浦光;所述第二光闌位于所述第二分光片和第二反射鏡對應的光路之間,用于阻斷或導通所述太赫茲探測光;所述第三光闌位于所述第三分光片和第三反射鏡對應的光路之間,用于阻斷或導通所述樣品探測光;所述第四光闌位于所述第三分光片和第四反射鏡對應的光路之間,用于阻斷或導通所述太赫茲泵浦光;
其中,在所述太赫茲泵浦光的激勵作用下所述太赫茲發射裝置發射出太赫茲波,所述太赫茲波經過所述第一太赫茲反射鏡、位于所述第一預設位置的待測樣品和第二太赫茲反射鏡傳播至所述太赫茲探測裝置;
其中,所述泵浦探測系統還包括:設置在所述光學平臺上的第五反射鏡、第六反射鏡以及第七反射鏡,所述第五反射鏡和第六反射鏡用于將所述太赫茲探測光經過兩次反射至所述第二反射鏡,所述第二光闌設置所述第五反射鏡和第六反射鏡對應的光路之間,所述第七反射鏡用于將所述激光器發射的激光反射至所述第一分光片上。
2.根據權利要求1所述的泵浦探測系統,其特征在于,所述太赫茲發射裝置包括第一聚光鏡和太赫茲發射器;所述太赫茲探測裝置包括第二聚光鏡和太赫茲探測器。
3.根據權利要求2所述的泵浦探測系統,其特征在于,還包括:鎖相放大器,所述鎖相放大器與所述太赫茲探測器電性連接。
4.根據權利要求3所述的泵浦探測系統,其特征在于,還包括:計算機設備;所述控制設備、光功率計和鎖相放大器均與所述計算機設備電性連接。
5.根據權利要求1所述的泵浦探測系統,其特征在于,所述載物裝置包括電機平移臺;所述電機平移臺的載物臺可延兩個相互垂直的方向移動。
6.根據權利要求1所述的泵浦探測系統,其特征在于,還包括:第一凸透鏡和孔徑光闌;所述第一凸透鏡和孔徑光闌設置在所述光學平臺上且位于所述第三反射鏡和光功率計之間以組成Z掃描裝置。
7.根據權利要求1所述的泵浦探測系統,其特征在于,所述激光器為飛秒激光器。
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