[發明專利]用于選擇性清潔渦輪發動機構件的系統和方法

有效

• 申請號: 201810607422.3
• 申請日: 2018-06-13
• 公開（公告）號: CN109083702B
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: N.J.蒂貝茨;A.J.詹金斯;B.P.布萊;E.J.多利;J.瓦特;C.佩雷特;V.G.勞里亞
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: F01D25/00
• 分類號: F01D25/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 楊忠;譚祐祥

1.一種用于使清潔組分選擇性地接觸渦輪發動機構件的表面的系統，包括：

清潔設備，其包括：

共同限定清潔室的上部部分和下部部分，所述清潔室構造成接納所述渦輪發動機構件的第一部分，且允許在所述清潔組分和所述渦輪發動機構件的所述第一部分的表面之間有選擇性接觸，

所述上部部分包括與所述清潔室處于流體連通的多個充注孔，而所述下部部分包括與所述清潔室處于流體連通的多個排出孔；以及

歧管組件，其與所述多個充注孔和所述多個排出孔處于流體連通，所述歧管組件構造成選擇性地使所述清潔組分從貯存器經由所述多個充注孔循環到所述清潔室，且使所述清潔組分從所述清潔室經由所述多個排出孔再循環到所述貯存器；

其中，所述上部部分和所述下部部分進一步限定掩蔽室，其用于接納所述渦輪發動機構件的第二部分，所述掩蔽室和所述清潔室經由密封機構在流體方面彼此密封，使得所述渦輪發動機構件的所述第二部分的表面不接觸所述清潔組分。

2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述上部部分進一步包括多個通氣孔，其與所述清潔室處于流體連通，且所述歧管組件與所述多個通氣孔處于流體連通，且進一步構造成使清洗組分經由所述多個通氣孔和所述多個排出孔循環到和循環出所述清潔室。

3.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述歧管組件與包括所述清潔組分的所述貯存器處于流體連通，且所述清潔組分具有至少10⁴泊的粘度。

4.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述渦輪發動機構件包括渦輪盤、渦輪葉片、壓縮機盤、壓縮機葉片、壓縮機軸、旋轉密封件、框架或殼體。

5.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述渦輪發動機構件的所述第一部分包括渦輪盤的鳩尾形部分。

6.一種用于使清潔組分選擇性地接觸渦輪發動機構件的表面的方法，包括：

將所述渦輪發動機構件的第一部分設置在清潔設備的清潔室中，所述清潔室由所述清潔設備的上部部分和下部部分限定；

使所述清潔組分從貯存器經由歧管組件和設置在所述清潔設備的所述上部部分中的多個充注孔循環到所述清潔室；

使所述清潔組分選擇性地接觸所述渦輪發動機構件的所述第一部分的表面；以及

使所述清潔組分從所述清潔室經由所述歧管組件和設置在所述清潔設備的所述下部部分中的多個排出孔再循環到所述貯存器；

其中，所述設置步驟進一步包括將所述渦輪發動機構件的第二部分設置在掩蔽室中，所述掩蔽室由所述清潔設備的所述上部部分和所述下部部分限定；所述掩蔽室和所述清潔室經由密封機構在流體方面彼此密封，使得在所述循環和接觸步驟期間，所述渦輪發動機構件的所述第二部分的表面不接觸所述清潔組分。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，進一步包括使清洗組分從清洗貯存器經由歧管組件和設置在所述清潔設備的所述上部部分中的多個通氣孔循環到所述清潔室，以及使所述清洗組分從所述清潔室經由所述歧管組件和設置所述清潔設備的所述下部部分中的多個排出孔再循環到所述清洗貯存器。

8.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述清潔組分具有至少10⁴泊的粘度。

9.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述清潔組分包括酸、活性化合物和增稠劑。

10.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述渦輪發動機構件包括渦輪盤、渦輪葉片、壓縮機盤、壓縮機葉片、壓縮機軸、旋轉密封件、框架或殼體。

11.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述渦輪發動機構件的所述第一部分包括渦輪盤的鳩尾形部分。