[發明專利]用于顯示器應用的織構化表面有效
| 申請號: | 201810601625.1 | 申請日: | 2014-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN108594342B | 公開(公告)日: | 2020-09-25 |
| 發明(設計)人: | J·P·漢米爾頓;K·W·科齊三世;A·李;J·M·米斯;D·A·諾蘭;V·拉維錢德蘭;I·G·魯達斯;N·J·史密斯;C·C·沃爾科特;R·揚森通 | 申請(專利權)人: | 康寧股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/02 | 分類號: | G02B5/02;G02B6/00;G02B1/118;C03C15/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 項丹 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 顯示器 應用 織構化 表面 | ||
1.一種發光體,所述發光體包含:
包含第一邊緣和與該第一邊緣相背的第二邊緣的基板,所述基板還包含含有表面織構的至少一個主表面,其中織構化表面的RMS粗糙度在5nm至75nm的范圍內,表面織構的相關長度在5nm至150nm的范圍內;以及
一個或多個鄰近第一邊緣布置的光源。
2.如權利要求1所述的發光體,所述發光體還包含沉積在織構化表面上的多個光散射抑制特征。
3.如權利要求2所述的發光體,其特征在于,所述多個光散射抑制特征的空間密度在第一邊緣到第二邊緣的方向上隨著距離而變化。
4.如權利要求3所述的發光體,其特征在于,所述多個光散射抑制特征的空間密度在第一邊緣到第二邊緣的方向上隨著距離而減小。
5.如權利要求2所述的發光體,其特征在于,所述多個光散射抑制特征的折射率等于所述基板的折射率。
6.如權利要求1所述的發光體,其特征在于,所述基板具有在0.16-0.22范圍內的雙峰參數值。
7.如權利要求1所述的發光體,其特征在于,所述發光體是顯示設備背光燈元件。
8.如權利要求1所述的發光體,其特征在于,所述基板是玻璃基板。
9.如權利要求1所述的發光體,其特征在于,所述基板的體積模量等于或大于10吉帕但小于450吉帕。
10.如權利要求1所述的發光體,其特征在于,在400nm至700nm的波長范圍內,所述基板具有等于或小于26dB/m的光衰減。
11.如權利要求1所述的發光體,其特征在于,所述基板具有等于或大于0.5的散射比,所述散射比定義為漫射透光率除以總透光率。
12.如權利要求1所述的發光體,其特征在于,用于評價所述發光體的照明接受度的視角優度等于或大于1.0。
13.如權利要求2所述的發光體,其特征在于,所述發光體沿其發光表面的亮度變化等于或小于20%。
14.一種顯示設備,所述顯示設備包含:
顯示面板;
鄰近顯示面板設置的發光體,所述發光體包含:
包含第一邊緣和與該第一邊緣相背的第二邊緣的基板,所述基板還包含具有5nm至75nm范圍內的RMS粗糙度的至少一個織構化表面,表面織構的相關長度在5nm至150nm的范圍內;
沉積在織構化表面上的多個光散射抑制特征;
鄰近第一邊緣布置的光源;以及
其中,所述光散射抑制特征的空間密度在從第一邊緣到第二邊緣的方向上變化。
15.如權利要求14所述的顯示設備,其特征在于,所述顯示面板是液晶顯示面板。
16.如權利要求15所述的顯示設備,其特征在于,所述光散射抑制特征的空間密度是遞減的空間密度,其隨著從第一邊緣到第二邊緣的距離而減小。
17.如權利要求14-16中任一項所述的顯示設備,其特征在于,所述基板具有在0.16-0.22范圍內的雙峰參數值。
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