[發(fā)明專利]一種硅片片盒和設(shè)備平臺在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810600906.5 | 申請日: | 2018-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN108987317A | 公開(公告)日: | 2018-12-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 任大清;戴峻 | 申請(專利權(quán))人: | 上海集成電路研發(fā)中心有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/673 | 分類號: | H01L21/673;H01L21/677 |
| 代理公司: | 上海天辰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吳世華;張磊 |
| 地址: | 201210 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硅片 片盒 設(shè)備平臺 工作平臺 真空機械手 工藝腔 前開門 搬運 傳輸效率 傳統(tǒng)設(shè)備 密封結(jié)構(gòu) 周邊連接 裝載模塊 氣閥 抽真空 閥接頭 主體柜 裝載臺 充氣 后閘 閘室 密封 裝載 保存 | ||
本發(fā)明公開了一種硅片片盒和設(shè)備平臺,硅片片盒設(shè)有前開門和氣閥接頭;設(shè)備平臺包括:裝載臺,用于放置硅片片盒;裝載閘室的前端通過前開門與硅片片盒密封相連,后端通過后閘與工作平臺相連;工作平臺的周邊連接工藝腔,工作平臺內(nèi)設(shè)有真空機械手,用于在硅片片盒與工藝腔之間進行硅片搬運。本發(fā)明的硅片片盒采用密封結(jié)構(gòu),可承受一定壓力,可由設(shè)備平臺通過氣閥接頭對硅片片盒抽真空或充氣,具有很強的保存硅片能力;設(shè)備平臺可省卻傳統(tǒng)設(shè)備前端裝載模塊的主體柜,占地面積小,且僅采用一個真空機械手即可進行硅片搬運,傳輸效率高。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體集成電路制造設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,更具體地,涉及一種硅片片盒和用于裝載該硅片片盒的設(shè)備平臺。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體集成電路制造技術(shù)的發(fā)展,硅片已從150mm、200mm發(fā)展至300mm或更大,F(xiàn)AB(潔凈車間)的造價也越來越高。如何有效利用潔凈車間的有限生產(chǎn)空間,提高生產(chǎn)設(shè)備的效率,縮短生產(chǎn)周期等問題,也變得越來越重要。
目前通用的設(shè)備中,一般通過將設(shè)備前端裝載模塊(Equipment Front EndModule,EFEM)與工作平臺連接,并在工作平臺上掛載工藝腔等的形式組成。
請參閱圖1,圖1是目前通用的一種設(shè)備前端裝載模塊結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示,設(shè)備前端裝載模塊設(shè)有主體柜1、裝載臺2、裝載腔5等。裝載臺2設(shè)置在主體柜前側(cè),用于裝載前開式標(biāo)準(zhǔn)硅片盒(FOUP)3。裝載腔5設(shè)于主體柜后側(cè),并和工作平臺7相連。主體柜內(nèi)置大氣機械手4,用于在裝載臺2和裝載腔5之間搬運硅片。
上述設(shè)備前端裝載模塊在進行硅片傳輸時,首先,通過過頂傳輸系統(tǒng)OHT傳輸FOUP3到裝載臺2上,主體柜上的上開門裝置6將FOUP3的片盒門打開。大氣機械手4轉(zhuǎn)動到裝載臺2前,并上下升降用于選取FOUP中不同高度位置的硅片,然后再轉(zhuǎn)動并運送硅片至裝載腔5中。此時,裝載腔5的后門9關(guān)閉,前門8打開,裝載腔5處于大氣狀態(tài)下。接著,關(guān)閉裝載腔5的前門8,將裝載腔5抽至真空狀態(tài)下,并和工作平臺7壓力平衡后,打開后門9,和工作平臺7在真空狀態(tài)下交換硅片。然后,再由工作平臺7里的真空機械手傳輸硅片到相應(yīng)的工藝腔,以實現(xiàn)對應(yīng)的工藝,如蝕刻,去膠,長膜等。工藝結(jié)束后,再將硅片傳回裝載腔5,關(guān)閉后門9,回復(fù)到大氣狀態(tài)后,打開前門8,大氣機械手4再搬送硅片到FOUP3中。
然而,上述設(shè)備前端裝載模塊由于采用了兩個機械手進行硅片裝載,需要設(shè)置主體柜來形成封閉的傳輸空間,因而增大了設(shè)備前端裝載模塊的占地面積。同時,采用兩個機械手進行硅片裝載,也降低了硅片的傳輸效率以及生產(chǎn)設(shè)備的使用效率,從而延長了生產(chǎn)周期。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷,提供一種硅片片盒和設(shè)備平臺。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
本發(fā)明提供了一種硅片片盒,設(shè)有前開門和氣閥接頭,所述硅片片盒通過所述前開門與一設(shè)備平臺之間建立第一密封,用于通過所述設(shè)備平臺與工藝腔之間進行硅片搬運;所述硅片片盒還通過所述氣閥接頭與所述設(shè)備平臺之間建立第二密封,用于通過所述設(shè)備平臺對所述硅片片盒內(nèi)進行壓力控制。
進一步地,所述前開門設(shè)有第一密封圈,所述氣閥接頭設(shè)有第二密封圈。
進一步地,所述氣閥接頭為與所述設(shè)備平臺設(shè)有的針閥相配合的快速氣閥接頭。
進一步地,所述硅片片盒內(nèi)設(shè)有第一壓力傳感器,所述第一壓力傳感器連接所述硅片片盒設(shè)有的顯示屏。
本發(fā)明還提供了一種設(shè)備平臺,用于裝載上述的硅片片盒,所述設(shè)備平臺包括:
裝載臺,用于放置所述硅片片盒;
裝載閘室,其前端通過所述前開門與所述硅片片盒相連,其后端通過后閘與工作平臺相連;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





