[發明專利]一種基于硅模板構建具有多級形貌的聚吡咯薄膜的方法在審
| 申請號： | 201810596261.2 | 申請日： | 2018-06-11 |
| 公開（公告）號： | CN108659246A | 公開（公告）日： | 2018-10-16 |
| 發明（設計）人： | 魯從華;楊成楓 | 申請（專利權）人： | 天津大學 |
| 主分類號： | C08J7/04 | 分類號： | C08J7/04;C08J5/18;C08L79/04;C08L83/04 |
| 代理公司： | 天津一同創新知識產權代理事務所(普通合伙) 12231 | 代理人： | 李麗萍 |
| 地址： | 300350 天津市津南區海*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 硅模板 形貌 薄膜 聚吡咯薄膜 制備過程 構建 圖案 導電聚合物 表面沉積 表面形貌 加熱固化 皺紋結構 混合物 不均勻 交聯劑 聚吡咯 可控性 圖案化 光刻 澆筑 皺紋 印章 | ||
【權利要求書】：
1.一種基于硅模板構建具有多級形貌的聚吡咯薄膜的方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟一：將PDMS預聚體與交聯劑按照質量比為10:1混合后，倒入離心管中，攪拌形成均勻的混合物；
步驟二：將PDMS預聚體與交聯劑的混合物進行真空脫氣處理1h后倒入放有硅模板的方形容器中，并均勻地分布；
步驟三：將倒入容器中的預聚體與交聯劑的混合物進行真空脫氣處理30min，后放入烘箱中，在70℃下加熱固化4h，制得有硅模板圖案的PDMS印章；
步驟四：按照質量體積比為6.5～7.0mg/ml將吡咯單體溶解在鹽酸中，超聲混勻得到溶液A，按照質量體積比為30～35mg/ml將氯化鐵溶解在鹽酸中，超聲混勻得到溶液B；
步驟五：將步驟四制得的溶液A轉移至盛放有PDMS印章的培養皿中，然后加入步驟四制得的溶液B，其中，溶液A與溶液B的體積比為1:1，均勻混合后放入溫度為2～5℃的冰箱內反應30min-7h；
步驟六：反應結束后從冰箱中取出容器，倒去殘余液體，并用蒸餾水沖洗干凈，干燥，最后得到具有多級皺紋結構的聚吡咯薄膜。
2.根據權利要求1所述基于硅模板構建具有多級形貌的聚吡咯薄膜的方法，其特征在于，所得聚吡咯薄膜的皺紋周期與步驟五中的反應時間成正比。
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