[發明專利]設置有前后導向輥的涂布機背涂設備

在審

• 申請號: 201810593373.2
• 申請日: 2018-06-11
• 公開（公告）號: CN108858730A
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 王道力;亓華利;劉延懷;湯永好;張梅春;亓榮寅
• 申請（專利權）人: 江蘇萬寶瑞達高新技術有限公司
• 主分類號: B28B19/00
• 分類號: B28B19/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.設置有前后導向輥的涂布機背涂設備，其特征在于：

包括上安裝橫梁（1）和地面（2）；

以及設置于上安裝橫梁（1）與地面（2）之間的安裝立柱（3），所述安裝立柱（3）的上端通過第一上安裝基板（32）固定安裝于上安裝橫梁（1）上，在安裝立柱（3）的上端與第一上安裝基板（32）之間還設置有第二上安裝基板（31）；所述安裝立柱（3）的下端通過第一下安裝基板（34）固定安裝于地面（2）上，在安裝立柱（3）的下端與第一下安裝基板（34）之間還設置有第二下安裝基板（33）；

第一導向輥（a）以能夠繞其軸心自轉的方式安裝于安裝立柱（3）的左側；

在安裝立柱（3）的右側固定設置有背涂水泥基礎臺（4），所述背涂水泥基礎臺（4）固定設置于地面（2）上；

背涂水泥基礎臺（4）上表面固定連接有背涂設備安裝基礎立柱（5）；

背涂設備安裝基礎立柱（5）的上表面設置有第二導向輥（b），第二導向輥（b）以能夠繞其軸心自轉的方式安裝于背涂設備安裝基礎立柱（5）的上表面；

背涂設備安裝基礎立柱（5）的左側固定設置有雙向氣缸（6）；

在背涂設備安裝基礎立柱（5）的左側延伸固定設置有左連接臂（53），前導向輥（c）以能夠繞其軸心自轉的方式安裝于左連接臂（53）的左端；

在背涂設備安裝基礎立柱（5）的右側延伸固定設置有右連接臂（54），背壓輥（d）以能夠繞其軸心自轉的方式安裝于右連接臂（54）的右端；

所述雙向氣缸（6）的上端位于所述左連接臂（53）的左端與所述右連接臂（54）的右端之間；

在所述背壓輥（d）的下方依次設置有能夠繞各自軸心自轉的涂布輥（e）和上料輥（f）；

在所述背涂水泥基礎臺（4）的右側依次設置有后導向輥（g）和第三導向輥（h），所述后導向輥（g）以能夠繞其軸心自轉的方式安裝于第一導輥支柱（7）的下端，所述第三導向輥（h）以能夠繞其軸心自轉的方式安裝于第二導輥支柱（8）的下端，第一導輥支柱（7）的上端通過第一支柱第一安裝基板（72）固定安裝于上安裝橫梁（1）上，在第一支柱第一安裝基板（72）與第一導輥支柱（7）的上端之間還設置有第一支柱第二安裝基板（71），第二導輥支柱（8）的上端通過第二支柱第一安裝基板（82）固定安裝于上安裝橫梁（1）上，在第二支柱第一安裝基板（82）與第二導輥支柱（8）的上端之間還設置有第二支柱第二安裝基板（82）；

紙張進入該設備后，依次通過第一導向輥（a）、第二導向輥（b）、前導向輥（c）、背壓輥（d）和涂布輥（e）、后導向輥（g）、第三導向輥（h）后傳出。

2.根據權利要求1所述的設置有前后導向輥的涂布機背涂設備，其特征在于：在該涂布機背涂設備的橫向上按照從左至右的順序依次排布有第一導向輥（a）、前導向輥（c）、第二導向輥（b）、涂布輥（e）和上料輥（f）、背壓輥（d）、后導向輥（g）、第三導向輥（h）。

3.根據權利要求1所述的設置有前后導向輥的涂布機背涂設備，其特征在于：在該涂布機背涂設備的豎向上按照從上至下的順序依次排布有第三導向輥（h）、后導向輥（g）、第一導向輥（a）、第二導向輥（b）、背壓輥（d）、前導向輥（c）、涂布輥（e）、上料輥（f）。

4.根據權利要求1所述的設置有前后導向輥的涂布機背涂設備，其特征在于：所述背涂設備安裝基礎立柱（5）的下端通過背涂設備安裝基板（51）與背涂水泥基礎臺（4）的上表面固定連接，且所述背涂設備安裝基板（51）位于所述背涂設備安裝基礎立柱（5）右側的長度大于所述背涂設備安裝基板（51）位于所述背涂設備安裝基礎立柱（5）左側的長度。

5.根據權利要求4所述的設置有前后導向輥的涂布機背涂設備，其特征在于：所述背涂設備安裝基礎立柱（5）位于背涂水泥基礎臺（4）上表面更靠左側的位置。

6.根據權利要求5所述的設置有前后導向輥的涂布機背涂設備，其特征在于：所述背涂設備安裝基礎立柱（5）的下端與所述背涂設備安裝基板（51）之間還設置有若干個立柱加強筋（52）。

7.根據權利要求1所述的設置有前后導向輥的涂布機背涂設備，其特征在于：所述雙向氣缸（6）的上端通過上安裝基部（61）與所述背涂設備安裝基礎立柱（5）的上端固定連接，所述雙向氣缸（6）的下端通過下安裝基部（62）與所述背涂設備安裝基礎立柱（5）的下端固定連接，所述雙向氣缸（6）用于調節所述右連接臂（54）的升降從而調節背壓輥（d）所處的位置。