[發明專利]液浸構件和曝光裝置

在審

• 申請號: 201810590028.3
• 申請日: 2013-12-26
• 公開（公告）號: CN108873614A
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 佐藤真路;小田中健洋
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;李文嶼

1.一種液浸構件，其用在液浸曝光裝置中，所述液浸曝光裝置隔著光學構件的射出面和基板之間的第一液體通過曝光用光對所述基板進行曝光，能夠在能夠于所述光學構件的下方移動的物體之上形成液浸空間，其中，

該液浸構件包括：

第一構件，其配置于所述光學構件的周圍的至少一部分；

第二構件，其能夠與所述物體相對，且能夠在所述曝光用光的光路的外側移動；和

保護部，其保護所述光學構件，

所述保護部使所述光學構件承受的來自所述液浸空間的液體的壓力的波動減小。

2.根據權利要求1所述的液浸構件，其中，

所述保護部配置于所述光路的周圍的至少一部分。

3.根據權利要求1或2所述的液浸構件，其中，

所述保護部具有能夠供所述曝光用光通過的第一開口。

4.根據權利要求3所述的液浸構件，其中，

所述第二構件能夠沿著與所述光學構件的光軸實質上垂直的規定方向移動，

所述第二構件具有能夠供所述曝光用光通過的第二開口，

在所述規定方向上，所述第二開口的尺寸大于所述第一開口的尺寸。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的液浸構件，其中，

所述第二構件的至少一部分能夠在所述保護部之下移動。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的液浸構件，其中，

所述保護部在所述光路的外側配置于所述光學構件和所述第二構件之間。

7.根據權利要求6所述的液浸構件，其中，

所述保護部以使在所述第二構件的移動期間所述光學構件和所述第二構件不相對的方式配置于所述光學構件和所述第二構件之間。

8.根據權利要求1～7中任一項所述的液浸構件，其中，

所述第一構件具有所述保護部。

9.根據權利要求8所述的液浸構件，其中，

所述保護部包括所述第一構件中離所述光路最近的第一部位。

10.根據權利要求9所述的液浸構件，其中，

所述第一部位是所述保護部的最下部。