[發(fā)明專(zhuān)利]方便單層正膠剝離的金屬圖形加工方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810583861.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108803261A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-11-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 任永碩;王榮華;王宏州;宋書(shū)寬 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 大連芯冠科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F7/42 | 分類(lèi)號(hào): | G03F7/42;G03F7/38 |
| 代理公司: | 大連非凡專(zhuān)利事務(wù)所 21220 | 代理人: | 閃紅霞 |
| 地址: | 116023 遼寧省大連市高新技術(shù)*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 正膠 金屬圖形 剝離 顯影 光刻膠 負(fù)膠 溶解 倒梯形結(jié)構(gòu) 光刻膠表面 后基片表面 剝離溶劑 表面加熱 金屬剝離 金屬脫離 上寬下窄 曝光 潔凈度 金屬層 顯影液 單層 底面 膠條 前烘 斷開(kāi) 制備 溫差 加工 裂縫 殘留 上層 穿過(guò) 金屬 制作 表現(xiàn) | ||
1.一種方便單層正膠剝離的金屬圖形加工方法,有在基片上勻正膠、前烘、曝光、顯影、制備金屬層及剝離步驟,其特征在于:所述曝光與顯影之間對(duì)光刻膠表面加熱處理0.5~30分鐘,使光刻膠表面與底面溫差為5~20℃。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述方便單層正膠剝離的金屬圖形加工方法,其特征在于所述加熱處理是用紅外加熱燈管烘烤光刻膠表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述方便單層正膠剝離的金屬圖形加工方法,其特征在于所述加熱處理是用均勻熱風(fēng)吹向光刻膠表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述方便單層正膠剝離的金屬圖形加工方法,其特征在于加熱處理的同時(shí)對(duì)基片底部進(jìn)行降溫處理。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于大連芯冠科技有限公司,未經(jīng)大連芯冠科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810583861.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類(lèi)似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





