[發(fā)明專利]一種淋釉主件及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810578055.9 | 申請日: | 2018-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN108638309A | 公開(公告)日: | 2018-10-12 |
| 發(fā)明(設計)人: | 彭基昌;湯建光 | 申請(專利權)人: | 佛山市三水盈捷精密機械有限公司 |
| 主分類號: | B28B11/04 | 分類號: | B28B11/04 |
| 代理公司: | 佛山東平知識產權事務所(普通合伙) 44307 | 代理人: | 黃紹彬;詹仲國 |
| 地址: | 528100 廣東省佛山市三*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 淋釉 水蒸氣 主件 制備 磚坯 向下彎曲部 制造成本 磚坯表面 彎曲部 圓弧端 水滴 排出 釉料 釉面 鐘罩 整機 積聚 占用 節(jié)約 損害 | ||
本發(fā)明公開了一種淋釉主件及其制備方法,其特征在于,它包括呈扇形的淋釉主體,淋釉主體的圓弧端設置有向下彎曲部,使得釉料能夠沿著彎曲部下落到從下方通過的磚坯表面。本發(fā)明結構簡單,節(jié)約了材料,降低了整機的制造成本;減少了機器的安裝位置占用,使用更方便等;同時便于水蒸氣排出,減少在鐘罩內水蒸氣積聚,從而減少水滴對磚坯釉面損害。
技術領域
本發(fā)明涉及陶瓷淋釉設備技術領域,更具體的是涉及一種淋釉器。
背景技術
陶瓷生產已有千百年的歷史,陶瓷也是中國文明發(fā)展的重要標志,在國際、國內陶瓷生產工藝方法跟隨時代與科技的發(fā)展得到不斷的提高和豐富。隨著技術的發(fā)展,淋釉工藝出現(xiàn)并得以利用并廣泛用于表面平整的陶瓷墻地磚。淋釉器的核心部件是將釉料形成釉膜的部分,即鐘罩。要產生均勻的釉膜,對淋釉主件的形狀尺寸精度要求很高。如果淋釉主件變形,則會影響釉膜的厚度的均勻性,從而造成產品表面施釉不均勻,使產品降級。因此,目前,鐘罩淋釉器的淋釉主件是圓形的,但是,在淋釉器實際使用中只是用整個圓的一半,而另一半使用中則是浪費的,不僅提高了生產的成本,而且還占用較大的空間,安裝也不方便。特別是隨著瓷磚的規(guī)格向著越來越大的趨勢發(fā)展。過去多年鐘罩的直徑規(guī)格由1000到1200,1500,1800,近年出現(xiàn)了2300的規(guī)格。由于規(guī)格越大,沖壓,加工、拋光等設備的投入越來越大,成品成本越來越高(2300規(guī)格的價格在10萬元以上),因此,有必要對其進行優(yōu)化設計,以降低生產成本。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的就是為了解決現(xiàn)有技術之不足而提供的一種不僅結構簡單,生產成本低,而且設計合理的淋釉主件。
本發(fā)明的另一目的是提供一種生產成本低,而且設計合理的淋釉主件的制備方法。
本發(fā)明是采用如下技術解決方案來實現(xiàn)上述目的:一種淋釉主件,其特征在于,它包括呈扇形的淋釉主體,淋釉主體的圓弧端設置有向下彎曲部,使得釉料能夠沿著彎曲部下落到從下方通過的磚坯表面。
作為上述方案的進一步說明,在淋釉主體的直邊端設置有仿形支架;仿形支架包括沿淋釉器主體的直邊端設置的上、下夾條。
優(yōu)選地,所述淋釉主體呈半圓形。
優(yōu)選地,呈半圓形的淋釉主體的直徑為生產的瓷磚邊長規(guī)格的至少2倍。
進一步地,呈半圓形的淋釉主體的直徑為5000mm以內。
優(yōu)選地,呈半圓形的淋釉主體的直徑為1000-4000mm。
進一步地,淋釉主體的圓弧端設置有淋釉槽。
一種淋釉主件的制備方法,其特征在于,它包括如下生產步驟:
a、圓形淋釉主體的制備成型。
b、機加工;
c、拋光;
d、將圓形的淋釉主體切成扇形;
e、用仿形支架固定被切開的淋釉主體,使它的形狀達到設計要求。
進一步地,在所述步驟a中,淋釉主體的制備成型是采用模具沖壓的方式。
進一步地,在所述步驟a中,淋釉主體的制備成型是采用旋壓機旋壓成型的方式。
優(yōu)選地,切成扇形的淋釉主體為半圓形結構
本發(fā)明采用上述技術解決方案所能達到的有益效果是:
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