[發明專利]一種以HCl分子為二次激發對象的等離子體活性炭再生方法在審
| 申請號： | 201810577443.5 | 申請日： | 2018-05-28 |
| 公開（公告）號： | CN108786773A | 公開（公告）日： | 2018-11-13 |
| 發明（設計）人： | 殷衡 | 申請（專利權）人： | 殷衡 |
| 主分類號： | B01J20/34 | 分類號： | B01J20/34;B01J20/20 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 210018 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 活性炭 一次等離子體 激發 活性炭再生 污染物質 脫附 固體廢棄物處理 氮氣 再生活性炭 二次污染 高壓電場 環境工程 加熱再生 所屬領域 稀鹽酸 降解 轟擊 浸泡 廢棄 并用 | ||
1.本發明提供了一種以HCl分子為二次激發對象的等離子體活性炭再生方法，其特征在：
將廢棄的活性炭用清水反復浸泡清洗直至出水清澈，繼續用5％～10％稀鹽酸溶液浸泡1～2h，對上述活性炭進行固液分離；
用高壓電場激發氮氣生成能量密度為3300～3400W/cm2的一次等離子體，并用上述一次等離子體轟擊固液分離后的廢棄活性炭，使其溫度上升至1450～1500℃，并維持該溫度40～45min；
上述溫度能夠使活性炭表面的有機污染物沸騰汽化脫附，氮氣所激發的等離子體所攜帶的能量被活性炭孔隙中的HCl分子吸收，大量的能量吸使得活性炭孔隙中形成了急劇膨脹的二次等離子體而產生沖擊波，沖擊波使得活性炭孔隙中的污染物質被剔除，從而使其恢復吸附性能；
HCl分子所激發的二次等離子體中攜帶了大量氯自由基及高能電子，具有極強的氧化能力，能夠無選擇性地降解活性炭所脫附的污染物質，同時氯自由基提高了活性炭表面酸性官能團的數量，使其表面更具親水性，從而使零電荷點大大降低，有利于極性物質的去除。
2.根據權利要求1所述的一種以HCl分子為二次激發對象的等離子體活性炭再生方法，其特征在于：將廢棄活性炭用清水反復浸泡清洗后，需要用5％～10％稀鹽酸溶液浸泡1～2h。
3.根據權利要求1所述的一種以HCl分子為二次激發對象的等離子體活性炭再生方法，其特征在于：氮氣所激發的一次等離子體的能量密度為3300～3400W/cm2。
4.根據權利要求1所述的一種以HCl分子為二次激發對象的等離子體活性炭再生方法，其特征在于：再生溫度1450～1500℃，再生時間40～45min。
5.根據權利要求1所述的一種以HCl分子為二次激發對象的等離子體活性炭再生方法，其特征在于：一次等離子體所攜帶的能量被活性炭孔隙中的HCl分子吸收生成二次等離子體，二次等離子體產生過程中形成的沖擊波將活性炭孔隙中的污染物質剔除。
6.根據權利要求1所述的一種以HCl分子為二次激發對象的等離子體活性炭再生方法，其特征在于：二次等離子體中攜帶了大量氯自由基及高能電子，具有極強的氧化能力，能夠無選擇性地降解活性炭所脫附的污染物質。
7.根據權利要求1所述的一種以HCl分子為二次激發對象的等離子體活性炭再生方法，其特征在于：氯自由基提高了活性炭表面酸性官能團的數量，使其表面更具親水性，從而使零電荷點大大降低，有利于極性物質的去除。
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