[發(fā)明專利]一種降低干燥槽引起的顆粒雜質(zhì)的裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810576581.1
• 申請(qǐng)日: 2018-06-06
• 公開（公告）號(hào): CN108682643A
• 公開（公告）日: 2018-10-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 俞力洋;倉(cāng)凌盛;張傳民;陳建維
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 上海申新律師事務(wù)所 31272
• 代理人: 俞滌炯

1.一種降低干燥槽引起的顆粒雜質(zhì)的裝置，適用于晶圓進(jìn)行干燥工藝和水清洗工藝的過程中，所述干燥槽包括干燥腔與水清洗槽，其特征在于，包括：

所述干燥腔用以所述晶圓進(jìn)行所述干燥工藝；

所述水清洗槽設(shè)置于所述干燥腔的下方，與所述干燥腔設(shè)定一預(yù)定距離，所述水清洗槽用以所述晶圓進(jìn)行所述水清洗工藝；

一擋板，可拆卸地設(shè)置于所述干燥腔與所述水清洗槽之間，用以隔離所述干燥腔與所述水清洗槽；

一擱置槽，設(shè)置于所述干燥槽的一側(cè)，且開設(shè)一開口以連通所述干燥槽，于所述晶圓下降至所述水清洗槽進(jìn)行所述水清洗工藝時(shí)，所述擋板放置于所述擱置槽內(nèi)；

所述擱置槽的上方連通一水管與一氮?dú)夤?，于所述擋板擱置于所述擱置槽內(nèi)時(shí)，通過所述水管與所述氮?dú)夤芤郧逑此鰮醢澹?/p>

所述擱置槽的下方設(shè)置與所述水管和所述氮?dú)夤軐?duì)應(yīng)的排水管與排氣管。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述擋板的尺寸大小與所述干燥槽的尺寸相匹配。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述擋板的結(jié)構(gòu)與所述擱置槽的結(jié)構(gòu)相匹配。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述預(yù)定距離大于所述擋板的厚度，與所述擱置槽的厚度相同。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述干燥腔、所述水清洗槽及所述擱置槽一體成型。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述干燥腔的結(jié)構(gòu)與所述晶圓結(jié)構(gòu)相適配。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述水清洗槽的結(jié)構(gòu)與所述晶圓結(jié)構(gòu)相適配。

8.一種槽型濕法清洗設(shè)備，包括上述權(quán)利要求1-7所述的降低干燥槽引起的顆粒雜質(zhì)的裝置。