[發(fā)明專利]金屬電極的沉積方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810575540.0 | 申請日: | 2018-06-06 |
| 公開(公告)號: | CN108899756B | 公開(公告)日: | 2020-04-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 逯心紅;郝潤豹;尚飛 | 申請(專利權(quán))人: | 青島海信寬帶多媒體技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/028 | 分類號: | H01S5/028;H01S5/042 |
| 代理公司: | 北京博思佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
| 地址: | 266555 山東省青*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬電極 沉積 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種金屬電極的沉積方法,該方法包括:在晶圓表面蒸涂底膜;在所述晶圓的表面涂覆雙層光刻膠層,所述雙層光刻膠層覆蓋所述底膜;對雙層光刻膠層進行曝光、顯影,以顯現(xiàn)出特定沉積圖形;依次在所述沉積圖形上進行第一金屬和第二金屬沉積;將第三金屬以不同速率分次在所述第二金屬層上進行沉積;去除所述晶圓表面的光刻膠層,以在所述晶圓表面形成金屬電極圖形。本發(fā)明通過不同沉積速率搭配沉積的方式,可以較好地維持光刻膠的膠型,防止長時間高能量原子轟擊光刻膠,導(dǎo)致光刻膠變形塌陷,解決金屬剝離困難的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光電技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種金屬電極的沉積方法。
背景技術(shù)
金屬電極沉積方法在半導(dǎo)體及微納技術(shù)中廣泛應(yīng)用,通常有電子束蒸發(fā)物理沉積方法和電化學(xué)方法。采用電子束蒸發(fā)方式垂直入射方向好,且金屬與半導(dǎo)體之間可獲得較好的粘附性,從而在激光器芯片表面形成金屬電路。在激光器芯片表面制作正面電極(p-電極)時,需要先進行黃光工藝,將特定的電路通道暴露出來,再采用金屬沉積方式進行長金。
在有光刻膠掩膜的金屬沉積工藝中,一般會采用雙層光刻膠形成雙層屋檐結(jié)構(gòu)(undercut),取代單層膠結(jié)構(gòu),便于長金后的金屬剝離(lift-off)。但當(dāng)電子束蒸發(fā)沉積>2um金屬時,單純采用一種沉積速率達到目標沉積厚度時,不論單層光刻膠結(jié)構(gòu)還是雙層光刻膠結(jié)構(gòu),在金屬應(yīng)力及溫度影響下,均會不同程度地出現(xiàn)光刻膠變形問題。例如:采用低沉積速率沉積金屬時,金屬沉積時間過長,生產(chǎn)效率低,生產(chǎn)成本過高,同時長時間金屬沉積,也會導(dǎo)致過高的金屬張應(yīng)力;采用高沉積速率沉積金屬時,高速率高能量原子轟擊光刻膠會導(dǎo)致光刻膠發(fā)生塌陷,金屬剝離困難、金屬卷邊問題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供了一種金屬電極的沉積方法以解決上述技術(shù)問題。
為了達到上述目的,本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為:
根據(jù)本發(fā)明的實施例,提供了一種金屬電極的沉積方法,包括:
在晶圓表面蒸涂底膜;
在所述晶圓的表面涂覆雙層光刻膠層,所述雙層光刻膠層覆蓋所述底膜;
對雙層光刻膠層進行曝光、顯影,以顯現(xiàn)出特定沉積圖形;
依次在所述沉積圖形上進行第一金屬和第二金屬沉積;
將第三金屬以不同速率分次在所述第二金屬層上進行沉積;
去除所述晶圓表面的光刻膠層,以在所述晶圓表面形成金屬電極圖形。
本發(fā)明的實施例提供的技術(shù)方案可以包括以下有益效果:本發(fā)明通過不同沉積速率搭配沉積的方式,可以較好地維持光刻膠的膠型,防止長時間高能量原子轟擊光刻膠,導(dǎo)致光刻膠變形塌陷,解決金屬剝離困難的問題。
應(yīng)當(dāng)理解的是,以上的一般描述和后文的細節(jié)描述僅是示例性和解釋性的,并不能限制本發(fā)明。
附圖說明
圖1是本發(fā)明一示例性實施例示出的一種金屬電極的沉積方法的流程圖;
圖2是本發(fā)明圖1所示的步驟S15的具體步驟的流程圖。
具體實施方式
以下將結(jié)合附圖所示的具體實施方式對本發(fā)明進行詳細描述。但這些實施方式并不限制本發(fā)明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)這些實施方式所做出的結(jié)構(gòu)、方法、或功能上的變換均包含在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
在本發(fā)明使用的術(shù)語是僅僅出于描述特定實施例的目的,而非旨在限制本發(fā)明。在本發(fā)明和所附權(quán)利要求書中所使用的單數(shù)形式的“一種”、“所述”和“該”也旨在包括多數(shù)形式,除非上下文清楚地表示其他含義。還應(yīng)當(dāng)理解,本文中使用的術(shù)語“和/或”是指并包含一個或多個相關(guān)聯(lián)的列出項目的任何或所有可能組合。
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