[發(fā)明專利]一種COF制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810571152.5 | 申請日: | 2018-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN108962761A | 公開(公告)日: | 2018-12-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 廖億彬;吳振忠;劉秀霞;何基強 | 申請(專利權(quán))人: | 信利半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/48 | 分類號: | H01L21/48;H01L23/492;H01L21/56 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102 | 代理人: | 鄧義華;廖苑濱 |
| 地址: | 516600 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 臨時基板 柔性薄膜 金屬走線層 制備 沉積金屬層 金屬層圖案 技術(shù)效果 蝕刻工藝 彎折能力 芯片鍵合 柔性度 上表面 貼合 曝光 | ||
本發(fā)明公開了一種COF制備方法,包括步驟:(a)提供臨時基板;(b)在所述臨時基板的上表面貼合柔性薄膜;(c)在所述柔性薄膜上沉積金屬層;(d)使用LCD/TFT曝光蝕刻工藝,將所述金屬層圖案化,形成金屬走線層;(e)將芯片鍵合在所述金屬走線層上;(f)將臨時基板與柔性薄膜分離,從而去掉所述臨時基板,最終獲得所需的COF。如此,可以實現(xiàn)提升工藝精度、提高柔性度和彎折能力,適用范圍大,成本低等技術(shù)效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及芯片封裝領(lǐng)域,特別涉及一種COF制備方法。
背景技術(shù)
COF(Chip On Film)是指薄膜上芯片鍵合封裝,其廣泛地應(yīng)用于顯示器件領(lǐng)域。隨著電子、通訊產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,顯示器的需求與日劇增,而相關(guān)產(chǎn)品都是以輕、薄、短、小為發(fā)展趨勢的,這就要求必須有高密度、小體積、能自由安裝的新一代封裝技術(shù)來滿足以上需求。COF技術(shù)正是在這樣的背景下迅速發(fā)展壯大,成為LCD、PDP等平板顯示器的驅(qū)動IC的一種主要封裝形式,進(jìn)而成為這些顯示模組的重要組成部分。COF技術(shù)已經(jīng)成為未來平板顯示器的驅(qū)動IC封裝的主流趨勢之一。
目前使用較多的COF主要通過TAPE過程工藝制備,然而這種材料工藝的精度較差,一般單面COF Film 最小Pitch 25um,雙面COF Film最小Pitch 35um,這樣的精度越來越不能滿足顯示器件領(lǐng)域的發(fā)展需求。
如何實現(xiàn)精密度更高,成本更低的COF制備成為本領(lǐng)域丞需解決的技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供了一種新型COF制備方法,可以實現(xiàn)提升工藝精度、提高柔性度和彎折能力,適用范圍大,成本低等技術(shù)效果。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采取的技術(shù)方案為:
提供一種COF制備方法,所述方法包括以下步驟:
(a)提供臨時基板;
(b)在所述臨時基板的上表面貼合柔性薄膜;
(c)在所述柔性薄膜上沉積金屬層;
(d)使用LCD/TFT曝光蝕刻工藝,將所述金屬層圖案化,形成金屬走線層;
(e)將芯片鍵合在所述金屬走線層上;
(f)將臨時基板與柔性薄膜分離,從而去掉所述臨時基板,最終獲得所需的COF。
進(jìn)一步地,所述步驟(c)包括:
(c1)先沉積絕緣層;
(c2)再在所述絕緣層上沉積金屬層;
并且,在執(zhí)行所述步驟(e)之前還包括:按照預(yù)定要求次數(shù)重復(fù)步驟(c1)、(c2)、(d)。
進(jìn)一步地,所述柔性薄膜的材料選自PI、PET、TAC。
進(jìn)一步地,所述金屬走線層使用鉬鋰鉬和銅制程。
進(jìn)一步地,所述COF的精度為6.5~16um IC pitch。
進(jìn)一步地,所述COF的線距為3um。
進(jìn)一步地,所述預(yù)定要求次數(shù)為1~7。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





