[發明專利]一種透明導電膜

在審

• 申請號: 201810568079.6
• 申請日: 2018-06-05
• 公開（公告）號: CN108597651A
• 公開（公告）日: 2018-09-28
• 發明（設計）人: 方文植
• 申請（專利權）人: 江西和信化研納米材料有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;G06F3/044
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種透明導電膜，包括基材層，其特征在于，所述基材層至少一個表面上形成有具有光學調整功能的透明導電層，透明導電層由折射率為1.6以上的高折射層以及折射率為1.45以下的低折射層疊加而成，本發明中具有透明導電層的蝕刻圖案的隱形性能并且透明導電層具有優異的粘附性。

技術領域

本發明涉及導電膜領域，尤其是涉及一種透明導電膜。

背景技術

在電容式觸摸屏中，作為用于檢測手指的觸摸位置的傳感器，大致分為在玻璃基板上層疊有透明導電層的玻璃傳感器，以及在透明塑料膜上層疊有透明導電層的透明塑料膜傳感器。特別是在薄膜傳感器中，通常是通過將蝕刻成線狀的兩個透明導電薄膜疊在一起比較多。但是，這樣蝕刻好透明導電層的圖案部與非圖案部的邊界部分容易視覺識別，從而會有電容式觸摸屏的外觀問題。

目前公開的光學用疊層膜通過蝕刻液蝕刻時容易被蝕刻液體侵蝕從而有很難有穩定的蝕刻痕的隱蔽的問題。在最近幾年，隨著生產智能手機的生產量的增加，有快速的蝕刻需求，特別是蝕刻工藝的最后步驟除去剩余的光刻膠的堿處理，使用加熱至40℃的5重量％的氫氧化鈉水溶液。當執行這種苛刻堿處理時，樹脂層中包含的二氧化硅顆粒容易溶化或脫落，使透明導電層的蝕刻圖案的隱形性能不佳。鑒于上述情況，本發明的發明人進行了大量努力的結果發現，當形成用于形成透明導電層的層壓體的最外表面層的低折射率層時，通過使用含有活性能量射線硬化樹脂里混合規定范圍內二氧化硅細顆粒來解決上述耐蝕刻性不足的問題。

發明內容

本發明為克服上述情況不足，旨在提供一種能解決上述問題的技術方案。

一種透明導電膜，包括基材層，所述基材層至少一個表面上形成有具有光學調整功能的透明導電層，透明導電層由折射率為1.6以上的高折射層以及折射率為1.45以下的低折射層疊加而成，所述低折射層按重量份計主要包括以下組分：含有斥水性樹脂的活性能量射線固化型樹脂 100份，二氧化硅細顆粒2～120重量份，含有斥水性樹脂的活性能量射線固化型樹脂與二氧化硅細顆粒之間通過混合并光固化形成低折射層。

作為本發明進一步的方案：所述二氧化硅細顆粒的平均粒徑大小位于20～70nm之間。

作為本發明進一步的方案：所述二氧化硅細顆粒采用中空的二氧化硅細顆粒。

作為本發明進一步的方案：所述二氧化硅細顆粒采用反應性二氧化硅細顆粒。

作為本發明進一步的方案：所述含有斥水性樹脂的活性能量射線固化型樹脂的疏水性樹脂采用氟樹脂。

作為本發明進一步的方案：所述低折射層具有37mN/m以上的表面自由能。

作為本發明進一步的方案：所述低折射層的膜厚大小為20?150nm。

本發明的有益效果：本發明中具有透明導電層的蝕刻圖案的隱形性能并且透明導電層具有優異的粘附性。

本發明的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發明的實踐了解到。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

本發明實施例中，一種透明導電膜，包括基材層，所述基材層至少一個表面上形成有具有光學調整功能的透明導電層，透明導電層由折射率為1.6以上的高折射層以及折射率為1.45以下的低折射層疊加而成，所述低折射層按重量份計主要包括以下組分：含有斥水性樹脂的活性能量射線固化型樹脂 100份，二氧化硅細顆粒2～120重量份，含有斥水性樹脂的活性能量射線固化型樹脂與二氧化硅細顆粒之間通過混合并光固化形成低折射層。