[發明專利]一種石墨烯選取刻蝕的方法及裝置

在審

• 申請號: 201810557452.8
• 申請日: 2018-06-01
• 公開（公告）號: CN110548996A
• 公開（公告）日: 2019-12-10
• 發明（設計）人: 關彥濤;解婧;屈芙蓉;李楠;趙麗莉;夏洋
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: B23K26/362
• 分類號: B23K26/362;B23K26/064;B23K26/70;B23K101/40
• 代理公司: 11302 北京華沛德權律師事務所
• 代理人: 房德權

1.一種石墨烯選取刻蝕的方法，其特征在于，所述方法包括：

設定所述激光的波長、功率和掃描路徑；

所述激光通過鏡組陣列聚焦，形成激光聚焦光斑；

用所述激光聚焦光斑掃描襯底樣品表面預設區域，完全刻蝕掉所述襯底樣品表面預設區域的石墨烯薄層，在所述石墨烯薄層表面形成圖案。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光的波長為極紫外150nm至近紅外1500nm。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光為脈沖激光，其中，所述激光的脈沖寬度為10^-8-10^-15s。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光聚焦光斑直徑為5μm-6mm。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述石墨烯薄層的原子層數為1-10層。

6.一種激光選區刻蝕石墨烯的裝置，其特征在于，所述裝置包括：

激光光源，所述激光光源發射出單脈沖激光；

計算機數據采集、處理與控制系統，所述計算機數據采集、處理與控制系統與激光光源連接，用以設置所述激光光源的波長、功率和掃描路徑參數；

鏡組陣列，所述鏡組陣列接收到所述激光光源發射的單脈沖激光，對所述單脈沖激光進行聚焦；

光學窗口法蘭組件，所述光學窗口法蘭組件接收聚焦后的所述單脈沖激光，掃描襯底樣品表面預設區域的石墨烯薄層；

激光掃描腔體，所述激光掃描腔體內設置有放置襯底樣品的載片平臺；

其中，所述光學窗口法蘭組件設置在所述激光掃描腔體上。

7.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

進樣通道，所述進樣通道設置在所述激光掃描腔體內。

8.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述光學窗口法蘭組件為100nm-1500nm特定波長范圍內的法蘭組件。

9.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

動力裝置，所述動力裝置設置在所述激光掃描腔體上。

10.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

真空規組件，所述真空規組件設置在所述激光掃描腔體上，按照預設真空條件對所述激光掃描腔體抽真空。