[發明專利]一種X射線波帶片的制備方法

有效

• 申請號: 201810556195.6
• 申請日: 2018-06-01
• 公開（公告）號: CN108806819B
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發明（設計）人: 盧維爾;夏洋;孔祥東;韓立;李艷麗;門勇
• 申請（專利權）人: 嘉興科民電子設備技術有限公司
• 主分類號: G21K1/06
• 分類號: G21K1/06
• 代理公司: 北京眾達德權知識產權代理有限公司 11570
• 代理人: 劉杰

1.一種X射線波帶片的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

根據所需波帶片的厚度和直徑制備帶有圓孔的支撐體；

在所述支撐體上制備掩模板，所述掩模板為直徑比所述支撐體的圓孔直徑稍大的圓形結構；

在支撐體兩面旋涂光刻膠或者采用噴膠的方式進行旋涂，進行曝光顯影，所述支撐體上的圓孔部分光刻膠被顯影；

在帶有圓孔的所述支撐體表面采用原子層沉積技術交替沉積第一薄膜材料和第二薄膜材料作為波帶片逐層遞減的薄膜環帶結構；

將所述支撐體邊緣沉積的薄膜材料刻蝕掉；

清洗所述支撐體上的光刻膠；

將所述支撐體上圓孔附近多余的薄膜材料刻蝕掉；

其中，所述支撐體的厚度大于1μm；

所述第一薄膜材料和所述第二薄膜材料為氧化物、氮化物或金屬；

所述第一薄膜材料的折射率與所述第二薄膜材料的折射率差值能夠引起π位相差，可以實現大于10％的衍射效率；衍射效率計算公式為：

其中，δ和β為兩種材料的折射率系數中，分別稱為折射率的消耗和系數因子；k為2π/λ，λ為X射線的波長，t為波帶片的厚度；

交替沉積的所述第一薄膜材料和所述第二薄膜材料的厚度根據設計要求遞增，沉積的第一層薄膜材料厚度與最外環寬度相等，且大于1nm。

2.如權利要求1所述的X射線波帶片的制備方法，其特征在于：所述支撐體上的圓孔的孔徑即為波帶片的直徑，所述圓孔的孔徑大于30μm。

3.如權利要求1所述的X射線波帶片的制備方法，其特征在于：所述制備帶有圓孔的支撐體，具體包括如下步驟：

采用聚焦離子束、激光或電化學工藝對所述支撐體進行打孔拋光，形成若干隨機分布的圓孔。

4.如權利要求1所述的X射線波帶片的制備方法，其特征在于：所述支撐體為金屬或陶瓷。

5.如權利要求1所述的X射線波帶片的制備方法，其特征在于：所述將所述支撐體邊緣沉積的薄膜材料刻蝕掉，具體包括如下步驟：

采用聚焦離子束、反應離子刻蝕或等離子體刻蝕技術將所述支撐體邊緣沉積的薄膜材料刻蝕掉。