[發(fā)明專利]太陽(yáng)能電池封裝板及其制備工藝、太陽(yáng)能電池及其封裝工藝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810555128.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108682706B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-08-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 逯平;張軍利 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 漢能移動(dòng)能源控股集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/048 | 分類號(hào): | H01L31/048 |
| 代理公司: | 北京華夏泰和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11662 | 代理人: | 孟德棟 |
| 地址: | 100107 北京市朝陽(yáng)*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 涂覆 太陽(yáng)能電池封裝 第一表面 制備工藝 阻隔層 太陽(yáng)能電池 第二表面 封裝層 基材層 太陽(yáng)能電池技術(shù) 鍍膜工藝 封裝工藝 光透過(guò)率 耐磨涂層 水汽阻隔 相對(duì)設(shè)置 良品率 輕薄 耐磨 省時(shí) 眩光 柔軟 靈活 | ||
1.一種太陽(yáng)能電池封裝板的制備工藝,其特征在于,包括:
提供基材層,所述基材層具有相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面;
將第一涂層涂覆于所述第一表面上,其中,所述第一涂層為粘結(jié)涂層;
將第三涂層涂覆于所述第二表面上,所述第三涂層為涂膠涂層;
在所述第一涂層的遠(yuǎn)離所述第一表面上形成阻隔層;
將所述封裝層涂覆于所述阻隔層遠(yuǎn)離所述第一涂層的一層上;
將第二涂層涂覆于所述封裝層的遠(yuǎn)離所述阻隔層的一層上,其中所述第二涂層為耐磨涂層;所述第三涂層和所述封裝層均為硅膠層,所述硅膠層的厚度為50-100μm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能電池封裝板的制備工藝,其特征在于,所述將第一涂層涂覆于所述第一表面上,包括:
提供第一涂層混合溶液,所述第一涂層為粘結(jié)涂層;
以涂布的方式將所述第一涂層混合溶液涂覆于所述第一表面上,形成第一涂層濕膜;
在第一指定溫度下干燥形成第一涂層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的太陽(yáng)能電池封裝板的制備工藝,其特征在于,在第一指定溫度下干燥形成第一涂層,包括:
在50℃-100℃下干燥形成第一涂層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能電池封裝板的制備工藝,其特征在于,所述將第三涂層涂覆于所述第二表面上,包括:
提供第三涂層混合溶液,所述第三涂層為涂膠涂層;
以涂布的方式將所述第三涂層混合溶液涂覆于所述第二表面上,形成第三涂層濕膜;
在第二指定溫度下干燥形成第三涂層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽(yáng)能電池封裝板的制備工藝,其特征在于,在第二指定溫度下干燥形成第三涂層,包括:
在50℃-120℃下干燥形成第二涂層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能電池封裝板的制備工藝,其特征在于,將所述封裝層涂覆于所述阻隔層遠(yuǎn)離所述第一涂層的一層上,包括:
提供硅膠混合溶液,其中,所述硅膠混合溶液包括液態(tài)硅膠、抗老化劑和固化劑;
以涂布的方式將所述硅膠混合溶液涂覆于所述阻隔層遠(yuǎn)離所述第一涂層的一層上,形成封裝層濕膜;
在第三指定溫度下干燥形成封裝層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的太陽(yáng)能電池封裝板的制備工藝,其特征在于,在第三指定溫度下干燥形成封裝層,包括:
在50℃-120℃下干燥形成封裝層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能電池封裝板的制備工藝,其特征在于,所述將第二涂層涂覆于所述封裝層的遠(yuǎn)離所述阻隔層的一層上,包括:
提供第二涂層混合溶液,所述第二涂層為耐磨涂層;
以涂布的方式將所述第二涂層混合溶液涂覆于所述封裝層的遠(yuǎn)離所述阻隔層的一層上,形成第二涂層濕膜;
在第四指定溫度下干燥形成第二涂層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的太陽(yáng)能電池封裝板的制備工藝,其特征在于,在第四指定溫度下干燥形成第二涂層,包括:
在50-100℃下干燥形成第二涂層。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能電池封裝板的制備工藝,其特征在于,
所述將第一涂層涂覆于所述第一表面上,包括:
將第一涂層通過(guò)狹縫涂、輥涂、噴涂、刮涂或旋涂工藝涂覆于所述第一表面上;
所述將第三涂層涂覆于所述第二表面上,包括:
將第三涂層通過(guò)狹縫涂、輥涂、噴涂、刮涂或旋涂工藝涂覆于所述第二表面上;
所述封裝層涂覆于所述阻隔層遠(yuǎn)離所述第一涂層的一層上,包括:
將封裝層通過(guò)狹縫涂、輥涂、噴涂、刮涂或旋涂工藝涂覆于所述阻隔層遠(yuǎn)離所述第一涂層的一層上;
所述第二涂層涂覆于所述封裝層的遠(yuǎn)離所述阻隔層的一層上,包括:
將所述第二涂層通過(guò)狹縫涂、輥涂、噴涂、刮涂或旋涂工藝涂覆于所述封裝層的遠(yuǎn)離所述阻隔層的一層上。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





