[發明專利]一種干氣密封的摩擦副在審
| 申請號: | 201810553702.0 | 申請日: | 2018-06-01 |
| 公開(公告)號: | CN108692031A | 公開(公告)日: | 2018-10-23 |
| 發明(設計)人: | 王玉鵬 | 申請(專利權)人: | 大連久泰密封有限公司 |
| 主分類號: | F16J15/40 | 分類號: | F16J15/40 |
| 代理公司: | 大連科技專利代理有限責任公司 21119 | 代理人: | 黃慧 |
| 地址: | 116000 遼寧省大*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 動壓槽 靜環 摩擦 動環 環槽 干氣密封 壩區 槽區 密封 圓周均勻分布 沿圓周方向 凹形結構 經濟實用 均勻設置 泵送 槽型 配對 同軸 副本 生產成本 穿過 消耗 上游 貫穿 | ||
本發明公開了一種干氣密封的摩擦副,包括配對的動環和靜環,所述動環的摩擦面上由內至外依次為密封內壩區、槽區、密封外壩區,所述槽區沿圓周均勻設置有動壓槽,所述動壓槽形狀為凹形結構,所述動壓槽的槽型為上游泵送;所述靜環的摩擦面上沿圓周方向開設有環槽,所述環槽與靜環同軸,所述靜環沿圓周均勻分布有與動環的動壓槽對應的氣孔,所述氣孔貫穿靜環且其一端穿過環槽與動壓槽對應。本發明的特點是:結構簡單,經濟實用,有效避免介質的浪費或大量消耗,降低了生產成本。
技術領域
本發明涉及機械密封領域,具體涉及一種干氣密封的摩擦副。
背景技術
干氣密封是非接觸式機械密封,干氣密封的摩擦副即一組干氣密封動靜環,其原理是在一組摩擦副的動環上,刻有一定形式的淺槽,在摩擦副相對轉動后,淺槽產生動壓效應,將摩擦面推開,達到非接觸的效果,常規的干氣密封如1-2所示,在動環上刻有動壓槽,隨著轉動,介質被向內泵送到動壓槽的根部,向圓內側泵送,槽根部以外的無槽區稱為密封壩,密封壩對介質流動產生阻止、抑制作用,增加氣膜壓力,貼合表面間的壓力使靜環表面與動環脫離,保持一個很小的間隙,當由氣體壓力和彈簧力產生的閉合壓力與氣膜的開啟壓力相等時,便建立了穩定的平衡間隙,即利用螺旋泵效下游泵送,使介質通過摩擦副而產生氣膜,達到非接觸密封的目的,介質側的高壓介質會通過動靜環之間的間隙,漏向大氣側一小部分,并且動壓槽槽型方向也是將高壓側的介質推向大氣側,此泄漏部分也可以通過調整密封參數來控制其泄漏量,泄漏后的介質基本都做燒掉處理,雖說浪費的介質不多,但長時間運行,也存在浪費。
發明內容
本發明的目的在于克服上述不足問題,提供一種干氣密封的摩擦副,使動靜環的密封面打開小間隙,實現摩擦副非接觸,同時還能減少介質浪費或將這種浪費降低到零。
本發明為實現上述目的所采用的技術方案是:一種干氣密封的摩擦副,包括配對的動環和靜環,所述動環的摩擦面上由內至外依次為密封內壩區、槽區、密封外壩區,所述槽區沿圓周均勻設置有動壓槽,所述動壓槽形狀為凹形結構,所述動壓槽的槽型為上游泵送;所述靜環的摩擦面上沿圓周方向開設有環槽,所述環槽與靜環同軸,所述靜環沿圓周均勻分布有與動環的動壓槽對應的氣孔,所述氣孔貫穿靜環且其一端穿過環槽與動壓槽對應。
所述氣孔一端開設于靜環摩擦面的環槽處,一端位于靜環介質側并開設于靜環摩擦面的對面。
所述氣孔一端開設于靜環摩擦面的環槽處,另一端位于靜環介質側并開設于靜環的外周面另。
所述氣孔一端開設于靜環摩擦面的環槽處,另一端位于靜環非介質側并開設于靜環的內周面。
所述氣孔位于靜環摩擦面的一端與動壓槽的槽根部相對應。
本發明的特點是:結構簡單,經濟實用,有效避免介質的浪費或大量消耗,降低了生產成本。
附圖說明
圖1是現有干氣密封摩擦副結構示意圖。
圖2是現有干氣密封摩擦副的動環示意圖。
圖3是本發明的結構示意圖。
圖4是本發明的動環結構示意圖。
圖5是本發明的動環的側剖視圖。
圖6是本發明的靜環結構示意圖。
圖7是本發明的氣孔另一端開設于靜環摩擦面的對面時的靜環側剖視圖。
圖8是本發明的氣孔另一端開設于靜環外周面時的靜環側剖視圖。
圖9是本發明的氣孔另一端開設于靜環內周面時的靜環側剖視圖。。
圖10是本發明工作狀態示意圖。
圖11是本發明工作原理圖。
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