[發明專利]吸盤

有效

• 申請號: 201810552852.X
• 申請日: 2018-05-31
• 公開（公告）號: CN110554572B
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 湯世炎;王繼明
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02F1/13
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

本發明提供了一種吸盤，所述吸盤包括吸附單元、支撐固定單元、整體冷卻單元及局部冷卻單元，所述吸附單元設置于所述支撐固定單元上，所述局部冷卻單元與所述整體冷卻單元連通，并穿過所述支撐固定單元與所述吸附單元接觸。通過利用局部冷卻單元將整體冷卻單元中的冷卻介質引導至吸附單元下表面進行冷卻，提高了冷卻均勻性。

技術領域

本發明涉及半導體制造技術領域，特別涉及一種吸盤。

背景技術

光刻設備是一種通過光刻裝置將圖案成像在目標工件上的設備，可用于液晶面板的制造等。工作過程中，電機發熱、摩擦生熱以及外界環境溫度等的影響，使得吸盤溫度升高，吸盤溫度通過熱傳遞的方式傳遞給吸盤上的玻璃基板，使玻璃基板溫度升高而產生熱膨脹，導致玻璃基板尺寸發生變化。此外，由于不同區域的散熱條件不盡相同，使玻璃基板不同區域存在較大的溫度差而產生熱變形，導致玻璃基板表面不平整。玻璃基板的熱膨脹和熱變形嚴重影響了設備成像質量。因此，有必要對吸盤的溫度進行控制，防止溫升過高以及溫度不均勻而影響設備的成像的質量。

傳統光刻設備中，大多數冷卻措施主要針對工件臺，卻忽略了對吸盤的溫度進行控制，隨著時代的發展，玻璃基板的尺寸變得越來越大，吸盤的溫度對玻璃基板的曝光質量影響也越來越嚴重。為了提高光刻設備的曝光質量，部分設備開始采用在吸盤內部鋪設蛇形鋼管，利用水冷卻的方式降低吸盤的溫度，這種冷卻方式雖然在一定程度上降低了吸盤的整體溫度，減少了玻璃基板的熱膨脹率，但是冷卻過程中出水口的溫度始終高于入水口的溫度而形成溫度差，玻璃基板的熱變形問題并沒有得到解決。此外，鋼管的熱膨脹系數是吸盤材料的熱膨脹系數的4-5倍，當溫度變化較大時，鋼管的變形量遠大于吸盤，有使吸盤炸裂的危險。

如何在生產過程中控制吸盤的溫度，從而保證玻璃基板尺寸穩定以及表面的平面度，使其得到最佳成像質量，一直是光刻設備面臨的一個難題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種吸盤，以解決使用現有技術中吸盤存在溫度不均衡，導致玻璃基板的尺寸穩定和表面平面度無法保證的問題。

為解決上述技術問題，本發明提供一種吸盤，所述吸盤包括：吸附單元、支撐固定單元、整體冷卻單元及局部冷卻單元，所述吸附單元設置于所述支撐固定單元上，所述局部冷卻單元與所述整體冷卻單元連通，并穿過所述支撐固定單元與所述吸附單元接觸。

可選的，在所述的吸盤中，所述局部冷卻單元包括中空螺釘和連接塊，所述中空螺釘穿過所述支撐固定單元，并卡設在所述支撐固定單元上，所述中空螺釘的頂部與所述吸附單元接觸；所述中空螺釘的底部與所述連接塊連接，所述中空螺釘通過連接塊與所述整體冷卻單元中的冷卻介質連通。

可選的，在所述的吸盤中，所述中空螺釘與所述連接塊之間由密封圈密封連接；所述中空螺釘與所述支撐固定單元之間由密封圈密封連接。

可選的，在所述的吸盤中，所述局部冷卻單元的數量為若干個，若干個局部冷卻單元按對稱、均布的方式排列。

可選的，在所述的吸盤中，所述整體冷卻單元包括若干冷卻管路及設置于冷卻管路上的流速閥，所述局部冷卻單元與所述整體冷卻單元中的冷卻管路連通。

可選的，在所述的吸盤中，所述若干冷卻管路平行分布。

可選的，在所述的吸盤中，所述若干冷卻管路呈網格狀分布。

可選的，在所述的吸盤中，還包括若干溫度探測單元，設置于所述支撐固定單元上，以探測所述支撐固定單元不同區域的溫度。

可選的，在所述的吸盤中，還包括控制器，所述控制器接收所有溫度探測單元反饋的信號，并輸出控制信號給各個溫度探測單元所在區域的流速閥，流速閥根據所述控制信號調節所在冷卻管路中冷卻介質的流量。

可選的，在所述的吸盤中，還包括恒溫箱，用于容置冷卻介質。