[發(fā)明專利]底漆組成物與使用該底漆組成物的銅箔基板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810552437.4 | 申請日： | 2018-05-31 |
| 公開（公告）號： | CN109385174B | 公開（公告）日： | 2021-04-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 黃仕穎;唐瑞祥 | 申請（專利權(quán)）人： | 財團法人工業(yè)技術(shù)研究院 |
| 主分類號： | C09D147/00 | 分類號： | C09D147/00;C09D143/04;C09D5/00;B32B15/20;B32B15/085;B32B27/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人： | 陳小雯 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 底漆 組成 使用 銅箔 | ||
1.一種底漆組成物，其特征在于，所述底漆組成物包括：
碳氫樹脂與具有3個以上碳碳雙鍵的化合物的混合物，其中所述碳氫樹脂與所述具有3個以上碳碳雙鍵的化合物的摩爾比介于1:0.2～1:10，其中所述碳氫樹脂包括聚丁二烯、聚苯醚或其混合，且所述具有3個以上碳碳雙鍵的化合物包括三甲代烯丙基異氰酸酯、甲基乙烯基環(huán)硅氧烷、四甲基四乙烯基環(huán)四硅氧烷、五甲基五乙烯基環(huán)五硅氧烷、八乙烯基八硅倍半氧烷或其混合。
2.如權(quán)利要求1所述的底漆組成物，其中所述聚丁二烯的重量平均分子量介于1000～8500之間。
3.如權(quán)利要求1所述的底漆組成物，還包括酮類溶劑與起始劑。
4.如權(quán)利要求3所述的底漆組成物，其中所述酮類溶劑包括丙酮、丁酮或其混合。
5.如權(quán)利要求3所述的底漆組成物，其中所述起始劑包括偶氮雙異丁腈、二甲亞砜、過氧化二異丙苯、過氧化苯甲酰或其混合。
6.一種銅箔基板，其特征在于，所述銅箔基板包括：
銅箔；
氟化高分子層，位于所述銅箔的一表面上；
硅烷層，介于所述氟化高分子層與所述銅箔的所述表面之間；以及
底漆層，介于所述氟化高分子層與所述硅烷層之間，其中所述底漆層包含如權(quán)利要求1～5中任一所述的底漆組成物。
7.如權(quán)利要求6所述的銅箔基板，其中所述銅箔的所述表面具有2μm以下的十點平均粗糙度以及0.5μm以下的方均根粗糙度。
8.如權(quán)利要求6所述的銅箔基板，其中所述氟化高分子層的厚度小于1mm。
9.如權(quán)利要求6所述的銅箔基板，其中所述氟化高分子層包括聚四氟乙烯、氟化乙丙烯、可溶性聚四氟乙烯或四氯乙烯/全氟甲基乙烯醚。
10.如權(quán)利要求6所述的銅箔基板，其中所述底漆層的厚度小于2.5μm。
11.一種銅箔基板，其特征在于，所述銅箔基板包括：
第一銅箔；
第二銅箔；
氟化高分子層，位于所述第一銅箔與所述第二銅箔之間；
第一硅烷層，位于所述氟化高分子層與所述第一銅箔之間；
第一底漆層，位于所述氟化高分子層與所述第一硅烷層之間；
第二硅烷層，位于所述氟化高分子層與所述第二銅箔之間；以及
第二底漆層，位于所述氟化高分子層與所述第二硅烷層之間，其中
所述第一底漆層與所述第二底漆層包含如權(quán)利要求1～5中任一所述的底漆組成物。
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