[發明專利]一種照明系統、曝光系統及光刻設備

有效

• 申請號: 201810550300.5
• 申請日: 2018-05-31
• 公開（公告）號: CN110554571B
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 尉佩;田毅強;徐建旭
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種照明系統，其特征在于，包括：

光源，用于輸出線偏振的照明光束；

光束調整模塊，位于所述光源的出光側，用于接收所述照明光束并形成具有特定形狀的光瞳；

所述光束調整模塊包括錐鏡組，所述錐鏡組上鍍有光學膜層，所述光學膜層對s光和p光的透過率不同；

所述光源與所述光束調整模塊之間還設置有偏振態調節模塊，所述偏振態調節模塊包括波片，所述波片與垂直所述照明光束光軸的平面具有第一夾角，用于將照明光束的偏振態由線偏振改變為部分偏振，使所述光瞳在水平和豎直方向均具有能量分布，從而改變所述光瞳的橢圓度。

2.根據權利要求1所述的照明系統，其特征在于，所述波片為四分之一波片或者二分之一波片或者全波片。

3.根據權利要求1所述的照明系統，其特征在于：

所述偏振態調節模塊還包括角度調節器，所述角度調節器用于調節所述第一夾角。

4.根據權利要求1所述的照明系統，其特征在于，所述光束調整模塊包括：

光瞳形成單元，用于調節所述照明光束在光瞳面上形成預設形狀的光瞳。

5.根據權利要求4所述的照明系統，其特征在于，所述光束調整模塊還包括：變焦鏡組，所述變焦鏡組沿光路設置于所述光瞳形成單元之后，用于將所述光瞳形成單元的出射光束成像于像面；

所述錐鏡組的光入射面位于所述變焦鏡組的像面，所述錐鏡組用于調節所述預設形狀的光瞳的相干因子。

6.根據權利要求1或5所述的照明系統，其特征在于，所述錐鏡組包括相對設置的正軸錐鏡和負軸錐鏡，所述正軸錐鏡沿光路方向設置于所述負軸錐鏡之后，所述正軸錐鏡和/或所述負軸錐鏡上鍍有所述光學膜層。

7.根據權利要求6所述的照明系統，其特征在于，所述正軸錐鏡和所述負軸錐鏡的底面為圓形或正多邊形，所述正多邊形的邊數為4的倍數。

8.根據權利要求1所述的照明系統，其特征在于，還包括：

會聚鏡組，沿光路設置于所述光束調整模塊的出光側，用于會聚所述照明光束；

中繼鏡組，沿光路設置于所述會聚鏡組的出光側；用于將所述照明光束進行投影。

9.根據權利要求8所述的照明系統，其特征在于，還包括：

勻光模塊，用于使所述照明光束均勻出射。

10.根據權利要求9所述的照明系統，其特征在于：

所述勻光模塊為微透鏡陣列，沿光路設置于所述光束調整模塊和所述會聚鏡組之間。

11.根據權利要求9所述的照明系統，其特征在于：

所述勻光模塊為勻光石英棒，沿光路設置于所述會聚鏡組和所述中繼鏡組之間。

12.根據權利要求1所述的照明系統，其特征在于：

所述光源為激光器。

13.一種曝光系統，其特征在于，包括如權利要求1-12任一所述的照明系統，還包括第一工作臺，投影物鏡系統以及第二工作臺；

所述第一工作臺位于所述照明系統的出光側，用于放置掩模板；所述投影物鏡系統位于所述第一工作臺遠離所述照明系統一側，用于聚焦所述照明系統的出射光至曝光基底；所述第二工作臺位于所述投影物鏡系統遠離所述第一工作臺一側，用于放置所述曝光基底。

14.一種光刻設備，其特征在于，包括如權利要求13所述的曝光系統。