[發明專利]一種自動出料的方法、裝置及系統

在審

• 申請號: 201810543584.5
• 申請日: 2018-05-30
• 公開（公告）號: CN108677163A
• 公開（公告）日: 2018-10-19
• 發明（設計）人: 紀幸辰
• 申請（專利權）人: 深圳市硅光半導體科技有限公司
• 主分類號: C23C16/34
• 分類號: C23C16/34;C23C16/44;C23C16/52
• 代理公司: 深圳市深聯知識產權代理事務所(普通合伙) 44357
• 代理人: 楊靜

本發明提出了一種自動出料的方法，用于含硅薄膜的制備，包括：S1.抓取反應爐中的溫度值；S2.至少根據所述的溫度值與預設溫度一致的指令，開啟反應爐的出料口；S3.啟動機械手，依次抓取含硅薄膜的成品，并投放在預設位置。本發明還公開了一種自動出料的裝置和系統。本發明的技術方案，自動從反應爐中取出含硅薄膜成品，解放了人力，便于自動化及無人生產。

技術領域

本發明涉及一種半導體領域，特別涉及一種自動出料的方法、裝置及系統。

背景技術

含硅薄膜，包括：氧化硅薄膜、碳化硅薄膜、氮化硅薄膜等材料具備許多優異的性能，如高熔點、高硬度、強穩定性、低膨脹系數、良導熱性、強抗熱震性及優良的光學性能等，其中，氮化硅塊材料及其薄膜能廣泛應用于光電子、微電子、機械加工、化學工業、太陽能電池、航空航天及集成電路等行業。

隨著薄膜應用的普及，薄膜制備的技術也成為了高新加工技術中的重要部分。目前，比較普及的氮化硅薄膜的制備方法有等離子體化學氣相沉積(PECVD)和低壓化學氣相沉積(LPCVD)法兩種方法，其中LPCVD法生產的膜密度更高、純度更高、物理化學特性更優良。

如何實現含硅薄膜的批量出料，以利于自動化生產？成為擺在人們面前的一道課題。

發明內容

為了解決以上的問題，本發明能提供一種自動出料的方法、裝置及系統。

本發明的技術方案是這樣實現的：

本發明公開了一種自動出料的方法，用于含硅薄膜的制備，包括：

S1.抓取反應爐中的溫度值；

S2.至少根據所述的溫度值與預設溫度一致的指令，開啟反應爐的出料口；

S3.啟動機械手，依次抓取含硅薄膜的成品，并投放在預設位置。

進一步地，所述的步驟S3具體是：

S3.啟動機械手，依次抓取含硅薄膜的成品，并投放在容納盒中。

進一步地，所述的成品為襯底及所述的襯底上的含硅薄膜的組件，所述的組件的厚度：400nm～780nm。

進一步地，所述的預設溫度為常溫。

本發明公開了一種自動出料的裝置，用于含硅薄膜的制備，包括：

溫度值抓取單元，用于抓取反應爐中的溫度值；

出料口開啟單元，用于至少根據所述的溫度值與預設溫度一致的指令，開啟反應爐的出料口；

機械手啟動單元，用于啟動機械手，依次抓取含硅薄膜的成品，并投放在預設位置。

進一步地，所述的機械手啟動單元具體是：

用于啟動機械手，依次抓取含硅薄膜的成品，并投放在容納盒中。

進一步地，所述的裝置還包括：

所述的成品為襯底及所述的襯底上的含硅薄膜的組件，所述的組件的厚度：400nm～780nm。

進一步地，所述的預設溫度為常溫。

本發明公開了一種自動出料的系統，包括：溫度傳感器、反應爐、控制器、機械手，所述的溫度傳感器及機械手均與所述的控制器相連接，所述的溫度傳感器用于檢測反應爐中的溫度，所述的控制器能控制所述的機械手抓取所述的反應爐中的含硅薄膜，所述的控制器具有上述的裝置。

進一步地，所述的系統還包括：傳送帶、驅動電機，所述的驅動電機驅動所述的傳送帶運轉，所述的機械手抓取所述的含硅薄膜于傳送帶上，輸送至預設位置。

實施本發明的一種自動出料的方法、裝置及系統，具有以下有益的技術效果：