[發明專利]一種鎂合金微弧氧化處理工藝

在審

• 申請號: 201810534125.0
• 申請日: 2018-05-29
• 公開（公告）號: CN108531963A
• 公開（公告）日: 2018-09-14
• 發明（設計）人: 陳孝;張琳娜
• 申請（專利權）人: 陳孝
• 主分類號: C25D11/30
• 分類號: C25D11/30
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種鎂合金微弧氧化處理工藝，其特征在于，該工藝包括以下步驟：

S1，將鎂合金工件放入超聲波清洗設備中，清洗液中添加粒徑為納米級的磨料，利用超聲波清洗設備對鎂合金工件的表面進行精細打磨；

S2，將S1中打磨后的鎂合金工件放入清洗設備中，利用蒸餾水對鎂合金工件進行清洗；

S3，將S2中清洗后的鎂合金放入微弧氧化設備中進行氧化處理；

S4，將S3中處理后的鎂合金工件再次放入清洗設備中清洗，利用蒸餾水對鎂合金工件進行清洗；

本工藝中采用的微弧氧化設備包括儲液殼體(1)、傳送機構(2)、撈出機構(3)、收集機構(4)、氧化機構(5)、攪拌機構(6)、打開機構(7)、暫儲罐(8)及連接板(9)，所述儲液殼體(1)的一側連接有所述連接板(9)；所述連接板(9)接觸連接于所述傳送機構(2)；所述儲液殼體(1)的一兩相對內側壁上設有所述氧化機構(5)；所述儲液殼體(1)背離所述連接板(9)的一側設有所述撈出機構(3)；所述儲液殼體(1)內的垂直于設有所述氧化機構(5)的相鄰兩側壁上設有所述攪拌機構(6)；所述儲液殼體(1)的內腔底部設有所述打開機構(7)；其中，

所述打開機構(7)包括第四電機(71)、絲桿(72)、第一密封板(73)及第二密封板(74)，所述儲液殼體(1)的內腔底部開口處設有所述第一密封板(73)和所述第二密封板(74)，且所述第一密封板(73)和所述第二密封板(74)之間接觸卡合卡合連接，所述第一密封板(73)和所述第二密封板(74)套接于所述絲桿(72)上，所述絲桿(72)固定套接于所述第四電機(71)上，所述第四電機(71)安裝于所述儲液殼體(1)內；所述儲液殼體(1)的底部位于所述第一密封板(73)和所述第二密封板(74)的底部設有所述暫儲罐(8)；其中，

所述儲液殼體(1)的底部連接于所述收集機構(4)，所述收集機構(4)包括收集箱(4)、隔板(42)、第一電磁閥(43)及第二電磁閥(44)，所述收集箱(4)設于所述儲液殼體(1)的底部，且所述暫儲罐(8)設于所述收集箱(4)的內部，所述暫儲罐(8)的的底面與所述收集箱(4)的內腔底部之間設有所述隔板(42)，且所述隔板(42)將所述收集箱(4)的內部分割為第一容納空腔(41a)和第二容納空腔(41b)，所述暫儲罐(8)的內腔連通至所述第一容納空腔(41a)的通道內設有所述第一電磁閥(43)，所述暫儲罐(8)的內腔連通至所述第二容納空腔(41b)的通道內設有所述第二電磁閥(44)。

2.根據權利要求1所述的一種鎂合金微弧氧化處理工藝，其特征在于：所述傳送機構(2)包括側擋板(21)、傳送帶(22)、第一輥輪(23)及第一電機(24)，所述傳送帶(22)接觸連接于所述連接板(9)，所述傳送帶(22)套接于所述第一輥輪(23)上，所述第一輥輪(23)套接于所述第一電機(24)上，所述第一電機(24)安裝于所述側擋板(21)上，所述傳動帶卡合固定在兩個側擋板(21)之間。

3.根據權利要求1所述的一種鎂合金微弧氧化處理工藝，其特征在于：所述撈出機構(3)包括第二輥輪(31)、支撐濾網(32)、第一轉動柱(33)及第二電機(34)，所述第二電機(34)安裝于所述儲液殼體(1)上背離所述連接板(9)的一側壁的頂端，所述第二電機(34)的轉軸上套接有所述第一轉動柱(33)的一端，所述第一轉動柱(33)的另一端轉動連接于所述儲液殼體(1)上，所述第一轉動柱(33)上套接有所述第二輥輪(31)，所述第二輥輪(31)的側壁上連接有所述支撐濾網(32)，其所述支撐濾網(32)延伸至所述儲液殼體(1)的內腔中。

4.根據權利要求3所述的一種鎂合金微弧氧化處理工藝，其特征在于：所述支撐濾網(32)呈頂端開口四棱臺形結構，且所述支撐濾網(32)的背離所述第一輥輪(23)的一端側壁高度低于所述連接板(9)連接于所述儲液殼體(1)的高度，且所述傳送帶(22)的高度大于所述儲液殼體(1)的頂面高度，所述連接板(9)傾斜連接于所述儲液殼體(1)與所述傳送帶(22)之間。