[發(fā)明專利]一種自動(dòng)化坯體表面處理方法及系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810533763.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-05-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108858703A | 公開(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 湯振華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湯振華 |
| 主分類號(hào): | B28B11/00 | 分類號(hào): | B28B11/00;B28B11/04;B28B17/00 |
| 代理公司: | 廣州潤(rùn)禾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44446 | 代理人: | 周鄭奇;林名欽 |
| 地址: | 511340 廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 功能區(qū) 基礎(chǔ)區(qū) 著色區(qū) 墨水 坯體表面處理 打印 基礎(chǔ)釉 輸送平臺(tái) 自動(dòng)化 圖案 并列設(shè)置 打印模組 坯體表面 設(shè)備領(lǐng)域 陶瓷工藝 打印機(jī) 承載 相距 貫穿 應(yīng)用 | ||
1.一種自動(dòng)化坯體表面處理方法,其特征在于,用打印機(jī)在坯體表面依次打印基礎(chǔ)釉、墨水、效果釉和/或保護(hù)釉,其中,所述基礎(chǔ)釉用于承載墨水,所述墨水用于形成顏色或圖案,所述效果釉用于形成效果,所述保護(hù)釉用于保護(hù)墨水形成的顏色或圖案或效果釉形成的效果。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)化坯體表面處理方法,其特征在于,所述基礎(chǔ)釉、保護(hù)釉和/或效果釉至少分兩次打印,并由打印機(jī)上的不同噴孔打印到坯體表面的同一位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的自動(dòng)化坯體表面處理方法,其特征在于,所述基礎(chǔ)釉的施釉量為50~100g/m2。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的自動(dòng)化坯體表面處理方法,其特征在于,所述方法還包括在打印之前向所述基礎(chǔ)釉中摻雜顏料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的自動(dòng)化坯體表面處理方法,其特征在于,所述方法還包括在打印基礎(chǔ)釉后用打印機(jī)打印用于形成立體效果的堆疊釉;或者在打印墨水后用打印機(jī)打印用于形成凹凸效果的干粒。
6.一種自動(dòng)化坯體表面處理系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)分為基礎(chǔ)區(qū)、著色區(qū)和功能區(qū),包括依次貫穿所述基礎(chǔ)區(qū)、著色區(qū)、功能區(qū)的輸送平臺(tái)和分別并列設(shè)置于所述基礎(chǔ)區(qū)、著色區(qū)、功能區(qū)并位于所述輸送平臺(tái)上方的打印模組,所述基礎(chǔ)區(qū)、著色區(qū)、功能區(qū)相距設(shè)置,基礎(chǔ)區(qū)包括基礎(chǔ)釉打印,所述著色區(qū)包括墨水打印,所述功能區(qū)包括效果釉打印和/或保護(hù)釉打印。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的自動(dòng)化坯體表面處理系統(tǒng),其特征在于,所述基礎(chǔ)區(qū)至少包括一對(duì)全幅面打印通道,所述功能區(qū)至少包括一對(duì)全幅面打印通道。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的自動(dòng)化坯體表面處理系統(tǒng),其特征在于,所述基礎(chǔ)區(qū)、著色區(qū)和功能區(qū)分別設(shè)有若干打印模組,所述基礎(chǔ)區(qū)和功能區(qū)的每個(gè)打印模組設(shè)有一對(duì)全幅面打印通道。
9.根據(jù)權(quán)利要求6~8任一項(xiàng)所述的自動(dòng)化坯體表面處理系統(tǒng),其特征在于,所述基礎(chǔ)區(qū)、著色區(qū)、功能區(qū)分別設(shè)有用于控制所述系統(tǒng)的控制臺(tái)和/或所述系統(tǒng)的一端設(shè)有用于控制所述系統(tǒng)的總控臺(tái)。
10.根據(jù)權(quán)利要求6~8任一項(xiàng)所述的自動(dòng)化坯體表面處理系統(tǒng),其特征在于,所述輸送平臺(tái)包括至少兩個(gè)相互對(duì)接的傳送機(jī)構(gòu),所述傳送機(jī)構(gòu)包括支架、設(shè)置于支架兩端的主動(dòng)輥和從動(dòng)輥、環(huán)繞所述主動(dòng)輥和從動(dòng)輥的傳送帶、設(shè)置在主動(dòng)輥和從動(dòng)輥之間并與傳送帶接觸配合的壓輥,所述壓輥兩端分別活動(dòng)連接于所述支架前后兩側(cè)。
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