[發明專利]一種高純鎵的結晶裝置及方法有效
| 申請號: | 201810526406.1 | 申請日: | 2018-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN108588449B | 公開(公告)日: | 2023-10-27 |
| 發明(設計)人: | 董建雄;趙亞偉;秦曾言;劉鋼湘;趙東亮;潘首道;畢效革;程濤;沈樂;胡勃;孟曉玉;張瑜 | 申請(專利權)人: | 中鋁礦業有限公司;中國鋁業股份有限公司 |
| 主分類號: | C22B58/00 | 分類號: | C22B58/00 |
| 代理公司: | 中國有色金屬工業專利中心 11028 | 代理人: | 李子健 |
| 地址: | 450041 河*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高純 結晶 裝置 方法 | ||
本發明提供一種高純鎵結晶裝置及方法,結晶裝置包括結晶管、恒溫水浴槽、恒溫攪拌器、攪拌控制裝置,所述恒溫攪拌器置于結晶管中,恒溫攪拌器與恒溫水浴槽有溫差,結晶管置于恒溫水浴槽中;所述恒溫攪拌器上端設有攪拌控制裝置。采用該裝置制備高純鎵的方法為:將熔融后的金屬鎵原料加入結晶管,恒溫水浴槽溫度控制在20℃~29℃,恒溫攪拌器溫度控制在30℃~40℃,恒溫攪拌器上下移動,移動速度控制在每分鐘往復2?10次,結晶時間控制在4~12小時,固液分離,得到固態鎵;重復上述步驟三至五次,得到純度在99.9999%~99.999999%的高純鎵。本裝置操作方法簡單,得到的鎵純度高,重現性好。
技術領域
本發明涉及高純鎵生產技術領域,具體是一種高純鎵的結晶裝置及方法。
背景技術
鎵是一種貴重的稀散金屬,應用范圍廣泛。它可用于低熔點合金、超導材料、原子反應堆中的熱載體;按照產品用途,“6N”鎵主要用于摻雜的GaAs、GaP、GaSb等半導體材料,不僅要求產品的純度達到99.9999%,尤其對Si、Fe、Zn、Cu等元素的含量要求苛刻。“7N”鎵,主要用于制作IC襯底的半絕緣砷化鎵,除C、N、O和Ta外,主要雜質的含量必須在0.005ppm以下,一般稱為電路級超純鎵。用于分子束外延源的鎵,除C、N、O和Ta外,所有雜質元素的含量都應低于GDMS分析的檢測極限。
高純鎵結晶法是金屬鎵提純的方法之一,結晶法提純的原理是借助于鎵金屬獨特的過冷卻特性,在過冷的鎵液體中加入一定的鎵晶體做晶種,促使晶體迅速生長,析出的晶體比初始的液體純度更高,而雜質逐步富集到液體中。將生成的晶體從液態鎵中分離出,可得到結晶提純后的鎵。在整個過程中,攪拌可以防止晶粒聚集在冷卻面上,讓晶粒在液體中處于懸浮狀態,液固均勻分布,避免局部區域過量成核及晶體表面結殼??梢?,攪拌是結晶過程中的核心,現有裝置中的攪拌器為一根玻璃試管,內裝有純水,由一根繩子牽引,連接曲柄連桿機構做上下往復運動。由于運動軌跡不確定,尤其是下降過程中不是直線往返運動,容易反復撞擊結晶槽,且隨著結晶槽晶體高度的增加,極易造成攪拌棒及結晶槽底破裂。
目前已公開的專利申請如CN10487822A、CN203256317U描述的結晶裝置復雜,成本高,專利申請CN101386923A描述的結晶方法結晶速度慢、結晶量少,不能大批量的生產,專利申請CN106048262A描述的結晶方法存在溫度分布不均勻,固液界面不穩定,固液分離困難等問題。
發明內容
本發明的目的是為了解決現有技術存在的問題,提供一種高純鎵的結晶裝置及方法。
上述目的是通過下述方案實現的:
一種高純鎵的結晶裝置,包括結晶管、恒溫水浴槽、恒溫攪拌器及攪拌控制裝置,恒溫攪拌器置于結晶管中,恒溫攪拌器與恒溫水浴槽有溫差,結晶管置于恒溫水浴槽中,恒溫攪拌器上端設有攪拌控制裝置。
根據上述結晶裝置,其特征在于,所述曲柄連桿機構包括調速電機、圓盤、連桿、導向座和滑桿,所述調速電機固定在支架頂端,所述調速電機的輸出轉軸與圓盤中心位置連接,所述連桿一端與圓盤偏心位置連接,所述連桿另一端與穿過導向座的滑桿鉸接,所述滑桿自由端與夾瓶器上端連接。
根據上述結晶裝置,其特征在于,所述夾瓶器為中空結構,上下端開孔;所述滑桿自由端穿過夾瓶器上端的孔,所述滑桿自由端裝有螺母,所述螺母直徑大于夾瓶器上端開孔直徑;所述夾瓶器下端開孔與恒溫攪拌器上端用錐套螺母連接。
根據上述結晶裝置,其特征在于,所述的恒溫攪拌器為玻璃試管,玻璃試管瓶口用塞子塞住,在塞子上插兩根水管實現循環熱水。
一種使用上述結晶裝置制備高純鎵的方法,包括以下步驟:
(1)將金屬鎵原料熔融待用;
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