[發(fā)明專(zhuān)利]一種氣動(dòng)執(zhí)行器應(yīng)用的低磨損導(dǎo)向桿及其表面工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810526266.8
• 申請(qǐng)日: 2018-05-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108754416B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳榮琴
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 蘇州瑞領(lǐng)克信息科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/02
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/02;C23C14/32;C23C14/06;F16K31/12
• 代理公司: 蘇州周智專(zhuān)利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32312
• 代理人: 周雅卿

1.一種氣動(dòng)執(zhí)行器應(yīng)用的低磨損導(dǎo)向桿的制備工藝，其特征在于，包括如下步驟：

步驟(1)，提供一導(dǎo)向桿的碳素鋼基材，打磨其表面，并將打磨后的碳素鋼基材放置于酸性溶液中，充分洗滌取出后再水洗干燥，得到預(yù)處理的基材；

步驟(2)，利用霍爾氣體離子源對(duì)所述基材進(jìn)行氣體轟擊來(lái)強(qiáng)化預(yù)處理的基材表面，霍爾源工作電壓為500～1800V，轟擊環(huán)境溫度600～800℃，轟擊時(shí)間2～3h；

步驟(3)，采用Nd：YAG脈沖激光打孔器在步驟(2)處理后的基材表面打圓孔，孔徑為0.06～0.1mm，面積率為10％～25％，得到表面織構(gòu)化的基材；

步驟(4)，采用磁過(guò)濾沉積技術(shù)在表面織化的基材表面分別沉積ZrB₂靶和MoS₂靶，形成涂覆于基材表面的固體涂層，進(jìn)而得到表面工藝處理后的導(dǎo)向桿。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣動(dòng)執(zhí)行器應(yīng)用的低磨損導(dǎo)向桿的制備工藝，其特征在于，步驟(1)中所述的酸性溶液為含硫酸1～2mol/L和氫氟酸0.5～1mol/L的溶液。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣動(dòng)執(zhí)行器應(yīng)用的低磨損導(dǎo)向桿的制備工藝，其特征在于，步驟(2)中所述的氣體為氦氣、氬氣。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣動(dòng)執(zhí)行器應(yīng)用的低磨損導(dǎo)向桿的制備工藝，其特征在于，步驟(4)中所述的ZrB₂靶所占質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為30～65％，所述的MoS₂靶所占質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為35～70％。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣動(dòng)執(zhí)行器應(yīng)用的低磨損導(dǎo)向桿的制備工藝，其特征在于，步驟(4)中所述磁過(guò)濾沉積技術(shù)采用起弧電流90～120A，彎管磁場(chǎng)2.0～4.0A，束流200～800mA，采用負(fù)壓-800V～-300V進(jìn)行沉積。

6.一種氣動(dòng)執(zhí)行器應(yīng)用的低磨損導(dǎo)向桿，其特征在于，該導(dǎo)向桿經(jīng)由根據(jù)權(quán)利要求1～5任意一項(xiàng)所述的制備工藝制備得到。