[發明專利]一種基坑內局部帷幕止水方法

在審

• 申請號: 201810525384.7
• 申請日: 2018-05-28
• 公開（公告）號: CN108661064A
• 公開（公告）日: 2018-10-16
• 發明（設計）人: 鄭林;李新明;戴連雙;徐龍彪;翟琨
• 申請（專利權）人: 鄭林
• 主分類號: E02D19/18
• 分類號: E02D19/18;E02D5/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基坑內局部帷幕止水方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1、在需要施工的位置確定若干導向槽的位置，并進行導向槽的設置；

S2、根據S1步驟中設置的導向槽的位置進行一期槽段的成型；

S3、待S2步驟中一期槽段成型完成后，進行二期槽段成型；

S4、一期槽段與二期槽段之間注漿，并進行一期槽段和二期槽段頂部清理，通過一期槽段和二期槽段形成帷幕；

S5、設置疏干井和排水系統，配合一期槽段和二期槽段進行地下水抽取。

2.如權利要求1所述的基坑內局部帷幕止水方法，其特征在于，所述S1步驟包括：

S11、確定若干導向槽的位置和尺寸，并進行定位后采用白灰灑出帷幕軸線，并根據帷幕軸線進行導向槽挖線；

S12、根據泥漿需求量，在基坑內挖掘泥漿池，并進行泥漿配制；

S13、確定相鄰導向槽之間的接頭孔尺寸，并進行接頭孔設置，通過接頭孔將導向槽分為一期槽段和二期槽段。

3.如權利要求2所述的基坑內局部帷幕止水方法，其特征在于，所述S11步驟中導向槽的深度為1.5-1.8m；導向槽的長度為5.6-5.9m。

4.如權利要求2所述的基坑內局部帷幕止水方法，其特征在于，所述S2步驟包括：

S21、將若干接頭管依次置于若干接頭孔中，并確保若干接頭管的底部與接頭孔底部接觸；

S22、將混凝土通過導管置于一期槽段內，進行混凝土水下澆筑。

5.如權利要求4所述的基坑內局部帷幕止水方法，其特征在于，所述S22步驟為：

將混凝土通過導管置于一期槽段內，需保證注入混凝土時是通過相鄰導管同時注入，需保證混凝土面上升速度不小于2m/h，若干一期槽段注入混凝土的間隔不超過30min。

6.如權利要求1所述的基坑內局部帷幕止水方法，其特征在于，所述S3步驟包括：

S31、待混凝土凝固后依次拔起若干接頭管，并在接頭孔的位置注入泥漿。

S32、在相鄰一期槽段之間進行二期槽段成型；

S33、將若干管身設置有溢漿孔的注漿管與一期槽段相鄰設置；

S34、向二期槽段內注入混凝土。

7.如權利要求6所述的基坑內局部帷幕止水方法，其特征在于，所述S33步驟為：

將若干管身設置有溢漿孔的注漿管與一期槽段相鄰設置，且注漿管的長度大于一期槽段的深度，溢漿孔螺旋設置，且相鄰溢漿孔的距離為0.5m。

8.如權利要求6所述的基坑內局部帷幕止水方法，其特征在于，所述S4步驟包括：

S41、待二期槽段成型后，通過高壓注漿泵向若干注漿管內注漿；

S42、一期槽段和二期槽段的頂部清理，保證一期槽段和二期槽段的頂部低于基礎0.3m，并通過顆粒為10-25mm的碎石填滿一期槽段、二期槽段和基礎之間的空間。

9.如權利要求8所述的基坑內局部帷幕止水方法，其特征在于，所述S41步驟為：

待二期槽段成型后，通過高壓注漿泵向若干注漿管內注如礦渣硅酸鹽水泥，且水灰比為0.45-0.55。

10.如權利要求1所述的基坑內局部帷幕止水方法，其特征在于，所述S5步驟為：

S51、在帷幕范圍內設置疏干井，且疏干井的底部低于基坑5m；

S52、在帷幕范圍外設置回灌井，且回灌井與帷幕之間的距離大于3m；

S53、通過排水泵將疏干井中的水排出到回灌井。