[發(fā)明專利]光路調(diào)整機(jī)構(gòu)及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810524686.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-05-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110542976B | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周東華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 揚(yáng)明光學(xué)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B7/182 | 分類號(hào): | G02B7/182;G03B21/28;G02B7/198 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務(wù)所 31283 | 代理人: | 薛琦 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新竹科*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 調(diào)整 機(jī)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
1.一種光路調(diào)整機(jī)構(gòu),其特征在于,包括:
一承載座,具有相對(duì)的一第一側(cè)與一第二側(cè);
一反射鏡,設(shè)于所述承載座的所述第一側(cè);
一第一線圈、一第二線圈、一第三線圈與一第四線圈,設(shè)于所述承載座的所述第二側(cè);
一框架,設(shè)于所述承載座的外圍;
一基座,設(shè)有一第一固定點(diǎn)與一第二固定點(diǎn),且所述框架經(jīng)由所述第一固定點(diǎn)與所述第二固定點(diǎn)固定于所述基座;
一第一對(duì)彈性件,所述第一對(duì)彈性件位于一第一軸上,并連接所述承載座與所述框架;以及
一第二對(duì)彈性件,所述第二對(duì)彈性件位于一第二軸上,并連接所述框架與所述基座,其中所述反射鏡在所述承載座的所述第一側(cè)形成一覆蓋區(qū)域,且所述第一線圈與所述第二線圈設(shè)于相對(duì)于所述覆蓋區(qū)域的所述承載座第二側(cè)的對(duì)應(yīng)區(qū)域內(nèi);所述第一線圈與所述第二線圈位在所述第一軸的兩側(cè),所述第三線圈與所述第四線圈位在所述第二軸的兩側(cè)。
2.一種光路調(diào)整機(jī)構(gòu),其特征在于,包括:
一承載座;
一反射鏡,設(shè)于所述承載座上,所述反射鏡具有一反射面及相對(duì)于所述反射面的一背面;
一框架,設(shè)于所述承載座的外圍;
一基座,設(shè)于所述框架的外圍;
一第一軸,設(shè)于所述承載座與所述框架之間;
一第二軸,設(shè)于所述框架與所述基座之間;以及
一第一致動(dòng)器與一第二致動(dòng)器,設(shè)于所述承載座相對(duì)于所述反射鏡的另一側(cè),且所述第一制動(dòng)器包括一第一電磁鐵及一第二電磁鐵,所述第二制動(dòng)器包括一第三電磁鐵及一第四電磁鐵;所述第一電磁鐵及所述第二電磁鐵位在所述第一軸的兩側(cè),且所述第三電磁鐵及所述第四電磁鐵位在所述第二軸的兩側(cè);
其中所述反射鏡的所述背面與所述第一軸之間設(shè)有一距離,可使所述反射鏡的所述反射面沿著所述第一軸作軸向擺動(dòng)一角度。
3.如權(quán)利要求1或2所述的光路調(diào)整機(jī)構(gòu),其特征在于,所述光路調(diào)整機(jī)構(gòu)更包含:
一間隔組件,設(shè)于所述承載座與所述反射鏡之間。
4.如權(quán)利要求3所述的光路調(diào)整機(jī)構(gòu),其特征在于,所述間隔組件是由一墊片或一膠體所構(gòu)成。
5.如權(quán)利要求1或2所述的光路調(diào)整機(jī)構(gòu),其特征在于,所述框架與所述承載座具有同一水平高度,且所述框架圍繞所述承載座。
6.如權(quán)利要求1所述的光路調(diào)整機(jī)構(gòu),其特征在于,所述光路調(diào)整機(jī)構(gòu)更包括:
對(duì)應(yīng)所述第一線圈、第二線圈、第三線圈與第四線圈設(shè)置的第一永磁鐵、第二永磁鐵、第三永磁鐵與第四永磁鐵。
7.如權(quán)利要求1所述的光路調(diào)整機(jī)構(gòu),其特征在于,所述承載座與所述框架、所述第一對(duì)彈性件及所述第二對(duì)彈性件一體成型。
8.如權(quán)利要求2所述的光路調(diào)整機(jī)構(gòu),其特征在于,所述光路調(diào)整機(jī)構(gòu)更包括:
對(duì)應(yīng)所述第一致動(dòng)器設(shè)置的至少一永磁鐵及對(duì)應(yīng)所述第二致動(dòng)器設(shè)置的至少一永磁鐵。
9.如權(quán)利要求2所述的光路調(diào)整機(jī)構(gòu),其特征在于,所述第一致動(dòng)器位于所述承載座的下方且包含至少一線圈,且所述第二致動(dòng)器位于所述框架的下方且包含至少一線圈,所述第一致動(dòng)器用以使所述反射鏡以所述第一軸為軸心作動(dòng),且所述第二致動(dòng)器用以使所述反射鏡以所述第二軸為軸心作動(dòng)。
10.一種光路調(diào)整機(jī)構(gòu)制造方法,其特征在于,包括:
提供一承載座,所述承載座具有相對(duì)的一第一側(cè)及一第二側(cè);
提供第一對(duì)彈性件和第二對(duì)彈性件,其中所述第一對(duì)彈性件位于一第一軸上,并連接所述承載座與一框架,所述第二對(duì)彈性件位于一第二軸上,并連接所述框架與一基座;
在所述第一側(cè)設(shè)置一反射鏡;以及
在所述第二側(cè)設(shè)置第一線圈、第二線圈、第三線圈與第四線圈,其中所述反射鏡在所述承載座的所述第一側(cè)形成一覆蓋區(qū)域,且所述第一線圈與所述第二線圈設(shè)于相對(duì)于所述覆蓋區(qū)域的所述承載座第二側(cè)的對(duì)應(yīng)區(qū)域內(nèi);所述第一線圈與所述第二線圈位在所述第一軸的兩側(cè),所述第三線圈與所述第四線圈位在所述第二軸的兩側(cè)。
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