[發(fā)明專利]激光探測設(shè)備及方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810517884.6
• 申請日: 2018-05-25
• 公開（公告）號: CN108508453A
• 公開（公告）日: 2018-09-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 杜晨光
• 申請（專利權(quán)）人: 洛倫茲（北京）科技有限公司
• 主分類號: G01S17/89
• 分類號: G01S17/89;G01B11/24
• 代理公司: 北京集智東方知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11578
• 代理人: 宋卉;陳亞斌

1.一種激光探測設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括：發(fā)射裝置、接收裝置、電子快門、同步控制器和處理器；

所述發(fā)射裝置，用于發(fā)射掃描待測對象表面的脈沖激光；

所述同步控制器，用于控制所述脈沖激光與所述電子快門同步；

所述電子快門，用于控制所述接收裝置的曝光時間；

所述接收裝置，用于接收所述脈沖激光經(jīng)所述待測對象表面的反射光并成像；

所述處理器，用于根據(jù)所述成像，獲得所述待測對象的信息。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述發(fā)射裝置包括：光源和掃描裝置；

所述光源，用于發(fā)射脈沖激光；

所述掃描裝置，在被驅(qū)動時運動，將所述脈沖激光反射或透射至待測對象表面的不同位置。

3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述掃描裝置，將所述脈沖激光沿一維方向反射或透射至所述待測對象表面的不同位置；或者，將所述脈沖激光沿二維方向反射或透射至所述待測對象表面的不同位置。

4.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述掃描裝置在被驅(qū)動時，按照設(shè)定參數(shù)，進(jìn)行非等角度間隔的非勻速轉(zhuǎn)動。

5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述發(fā)射裝置還包括：生成子裝置、編碼子裝置和發(fā)射子裝置；

所述生成子裝置，用于生成掃描待測對象表面的脈沖激光；

所述編碼子裝置，用于通過所述脈沖激光對同一目標(biāo)多次測量生成編碼發(fā)射信號；所述編碼發(fā)射信號攜帶所述設(shè)備的識別信息；

所述發(fā)射子裝置，用于發(fā)射所述編碼發(fā)射信號。

6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述處理器控制所述發(fā)射裝置在每個恒定的脈沖周期內(nèi)發(fā)射不同脈沖寬度的脈沖激光。

7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述接收裝置包括：窄帶濾波子裝置和成像子裝置；

所述窄帶濾波子裝置，具有根據(jù)所述脈沖激光的波長設(shè)置的濾波參數(shù)，用于對所述反射光進(jìn)行濾波；

所述成像子裝置，用于接收濾波后的所述反射光并成像。

8.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述接收裝置包括：掃描子裝置和成像子裝置；

所述掃描子裝置，在被驅(qū)動時運動，將所述反射光反射或透射至所述成像子裝置；

所述成像子裝置，用于接收經(jīng)所述掃描子裝置的所述反射光并成像。

9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述處理器按照設(shè)定條件，調(diào)整所述發(fā)射裝置的功率。

10.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括：環(huán)境光傳感器；

所述處理器，還用于根據(jù)所述環(huán)境光傳感器的檢測結(jié)果，調(diào)整所述發(fā)射裝置的功率。

11.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述處理器，還用于根據(jù)所述接收裝置接收的所述反射光的強(qiáng)度，調(diào)整所述發(fā)射裝置的功率。

12.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括：溫度傳感器和溫度控制裝置；

所述溫度傳感器，用于獲取所述發(fā)射裝置和所述接收裝置的溫度；

所述溫度控制裝置，用于在所述溫度傳感器獲取的溫度超過溫度閾值時，進(jìn)行溫度控制。

13.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述待測對象的信息為所述待測對象的位置；

所述處理器針對所述待測對象表面的特征點，獲得由所述接收裝置形成的圖像坐標(biāo)：

其中，

14.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述待測對象的信息為所述待測對象的材料；

所述處理器根據(jù)所述反射光的強(qiáng)度，確定所述待測對象的材料。