[發明專利]光偏折膜及應用該光偏折膜的顯示裝置有效
| 申請號: | 201810515723.3 | 申請日: | 2018-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN110398797B | 公開(公告)日: | 2022-07-26 |
| 發明(設計)人: | 張馨文;余國彰 | 申請(專利權)人: | 微采視像科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/18 | 分類號: | G02B5/18;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光偏折膜 應用 顯示裝置 | ||
1.一種光偏折膜,用以設置在一光源上,包括:
第一層,具有第一折射率;
第二層,形成于該第一層上且具有第二折射率;以及
介于該第一層及該第二層之間的界面包含光偏折結構;
其中,該光源所發出的光線依序穿過該第一層及該第二層,且該第一折射率大于該第二折射率,
其中該光偏折結構的周期小于20微米時,該光偏折膜以該第一層作為入光側的光分配比例DA小于該光偏折膜以該第二層作為入光側的光分配比例DB,
其中該光偏折結構的周期為1.3、2或4微米時,以該光偏折膜的該第一層為出光側所量測到的色偏值分別為0.014、0.016、0.012,以該光偏折膜的該第二層為出光側所量測到的色偏值分別為0.017、0.022、0.018。
2.一種光偏折膜,包括:
第一層,具有第一折射率;
第二層,形成于該第一層上且具有第二折射率;
保護層,形成于該第二層上;以及
介于該第一層及該第二層之間的界面包含光偏折結構;
其中,該第一折射率大于該第二折射率,其中該光偏折結構的周期小于20微米時,該光偏折膜以該第一層作為入光側的光分配比例DA小于該光偏折膜以該第二層作為入光側的光分配比例DB,
其中該光偏折結構的周期為1.3、2或4微米時,以該光偏折膜的該第一層為出光側所量測到的色偏值分別為0.014、0.016、0.012,以該光偏折膜的該第二層為出光側所量測到的色偏值分別為0.017、0.022、0.018。
3.如權利要求1或2所述的光偏折膜,其中該光分配比例DA介于0.99與0.3之間。
4.如權利要求1或2所述的光偏折膜,其中DA/(1-DA)=50~0.4。
5.如權利要求1或2所述的光偏折膜,其中該光偏折結構的周期介于0.5微米與20微米之間。
6.如權利要求1或2所述的光偏折膜,其中該第一折射率介于1.4與2之間。
7.如權利要求1或2所述的光偏折膜,其中該第二折射率介于1.2與1.8之間。
8.如權利要求1或2所述的光偏折膜,其中DB/DA=1.03~3。
9.如權利要求1或2所述的光偏折膜,其中│DB-DA│=0.03~2。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括:
顯示面板;以及
光偏折膜,設置于該顯示面板上,且包括:
第一層,具有第一折射率;
第二層,形成于該第一層上且具有第二折射率;以及
介于該第一層及該第二層之間的界面包含光偏折結構;
其中,該光偏折膜的該第一層位于該第二層與該顯示面板之間,且該第一折射率大于該第二折射率,其中該光偏折結構的周期小于20微米時,該光偏折膜以該第一層作為入光側的光分配比例DA小于該光偏折膜以該第二層作為入光側的光分配比例DB,
其中該光偏折結構的周期為1.3、2或4微米時,以該光偏折膜的該第一層貼附于該顯示面板出光側所量測到的色偏值分別為0.014、0.016、0.012,以該光偏折膜的該第二層貼附于該顯示面板出光側所量測到的色偏值分別為0.017、0.022、0.018。
11.一種顯示裝置,其特征在于,包括:
顯示面板;以及
光偏折膜,設置于該顯示面板上,包括:
第一層,具有第一折射率;
第二層,形成于該第一層上且具有第二折射率;
保護層,形成于該第二層上;以及
介于該第一層及該第二層之間的界面包含光偏折結構;
其中,該光偏折膜的該第一折射率大于該第二折射率,其中該光偏折結構的周期小于20微米時,該光偏折膜以該第一層作為入光側的光分配比例DA小于該光偏折膜以該第二層作為入光側的光分配比例DB,
其中該光偏折結構的周期為1.3、2或4微米時,以該光偏折膜的該第一層貼附于該顯示面板出光側所量測到的色偏值分別為0.014、0.016、0.012,以該光偏折膜的該第二層貼附于該顯示面板出光側所量測到的色偏值分別為0.017、0.022、0.018。
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