[發(fā)明專利]一種離子膜電解槽裝置和電解蝕刻廢液的系統(tǒng)及方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201810513712.1
• 申請日: 2018-05-25
• 公開（公告）號: CN108486607A
• 公開（公告）日: 2018-09-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 余子億
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市恒寶源環(huán)保科技有限公司
• 主分類號: C25C1/12
• 分類號: C25C1/12;C25C7/00;C23F1/46;C25C7/06
• 代理公司: 深圳市精英專利事務(wù)所 44242
• 代理人: 周文乾

1.一種離子膜電解槽裝置，包括開口朝上的槽體，所述槽體的空腔內(nèi)設(shè)有豎直方向的防腐塑料模框，所述塑料模框設(shè)有離子膜，所述離子膜將空腔分隔為陰極區(qū)和陽極區(qū)，所述陰極區(qū)設(shè)有若干個豎直方向的陰極板；所述陽極區(qū)設(shè)有若干個豎直方向的陽極板，其特征在于，所述陰極區(qū)兩側(cè)的上邊緣設(shè)有若干個陰極上卡口，所述陽極區(qū)兩側(cè)的上邊緣設(shè)有若干個陽極板上卡口；所述陰極區(qū)的側(cè)壁設(shè)有陰極側(cè)卡口，底部設(shè)有陰極底卡口；所述陽極區(qū)的側(cè)壁設(shè)有陽極側(cè)卡口，底部設(shè)有陽極底卡口；所述陰板區(qū)兩側(cè)的上邊緣還向內(nèi)延伸設(shè)有與陰極上卡口相對應(yīng)的陰極導(dǎo)向卡口；所述陽板區(qū)兩側(cè)的上邊緣還向內(nèi)延伸設(shè)有與陽極上卡口相對應(yīng)的陽極導(dǎo)向卡口。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子膜電解槽裝置，其特征在于，還包括設(shè)于槽體陰極區(qū)頂端前側(cè)的陰極導(dǎo)電檢測裝置，及設(shè)于槽體陽極區(qū)頂端前側(cè)的陽極導(dǎo)電檢測裝置；所述陰極導(dǎo)電檢測裝置包括，設(shè)于所述陰極上卡口外側(cè)且與陰極上卡口保持一定間隙的導(dǎo)電極，所述導(dǎo)電極上表面與所述陰極板延伸搭臂下表面接觸，用于支撐陰極板，所述陰極板延伸搭臂位于導(dǎo)電極與陰極上卡口之間的懸空處，供電流鉗下端的卡入以檢測電流；槽體陰極區(qū)頂端外緣設(shè)有位于導(dǎo)電極外側(cè)的線性滑軌，所述線性滑軌包括導(dǎo)軌及套設(shè)于導(dǎo)軌上表面的滑臺；所述滑臺上面設(shè)有所述的電流鉗，以逐一檢測陰極板的工作電流；所述槽體陰極區(qū)頂端前側(cè)還設(shè)有絕緣擋板；所述陽極導(dǎo)電檢測裝置與所述陰極導(dǎo)電檢測裝置以相對應(yīng)的方式設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的離子膜電解槽裝置，其特征在于，還包括設(shè)于滑臺上方的操作機構(gòu)，所述操作機構(gòu)包括主橫桿，所述主橫桿近所述離子膜電解槽裝置的一端連接有所述的電流鉗，遠所述離子膜電解槽裝置的一端設(shè)有主握捏部，主橫桿中部下端設(shè)有支架，所述支架下表面與所述滑臺固定連接，所述支架頂部垂直方向設(shè)有定位缺口，通過在定位缺口設(shè)有定位銷，以支撐所述主橫桿；所述主橫桿的一端為與電流鉗的主夾緊臂連接，其中段與副聯(lián)動臂一端鉸接，另一端為主握捏部，其中段與主聯(lián)動臂的中部鉸接；所述主聯(lián)動臂一端為與所述主握捏部相對應(yīng)的副握捏部，另一端與所述副橫桿的一端鉸接；副橫桿的另一端與電流鉗的副夾緊臂連接，副橫桿的中段與副聯(lián)動臂的另一端鉸接，主握捏部與副握捏部之間的相對運動，經(jīng)過傳動，轉(zhuǎn)換為電流鉗的主夾緊臂與副夾緊臂之間的相對運動。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子膜電解槽裝置，其特征在于，所述槽體的上方設(shè)有蓋板，兩端頂部設(shè)有若干抽風(fēng)口，用于抽取電解過程中產(chǎn)生的廢氣。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子膜電解槽裝置，其特征在于，所述槽體兩端上邊緣設(shè)有若干溢流口，并通過回流通道與出液接口相通。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子膜電解槽裝置，其特征在于，所述陽極板以純鈦為基底，表面涂覆有貴金屬涂層；所述陰極板由純鈦制成。

7.一種離子膜電解蝕刻廢液的系統(tǒng)，包括過濾裝置和離子膜電解槽裝置，其特征在于，還包括陽極液存儲槽和蝕刻液生產(chǎn)線，所述過濾裝置出口端通過管道與電解槽裝置陽極區(qū)進液接口和陰極區(qū)進液接口分別相連，所述的電解槽裝置為權(quán)利要求1-6任一項所述的離子膜電解槽裝置，所述離子膜電解槽裝置的陽極區(qū)出液接口與陽極液存儲槽入口端通過管道相連，所述陽極液存儲槽出口端通過管道與蝕刻液生產(chǎn)線相連，所述蝕刻液生產(chǎn)線又與過濾裝置進口端相連，形成閉合回路；還包括陰極液存儲槽、分析監(jiān)控裝置和廢液處理裝置，所述離子膜電解槽裝置的陰極區(qū)出液接口與陰極液存儲槽入口端通過管道相連，所述陰極液存儲槽出口端通過管道與廢液處理裝置入口端相連，所述廢液處理裝置還設(shè)有分析監(jiān)控裝置，所述分析監(jiān)控裝置用于檢測所述陰極液存儲槽內(nèi)蝕刻廢液量及所含各項成分比重，所述廢液處理裝置用于調(diào)整蝕刻廢液各成分比重在設(shè)定范圍內(nèi)，所述廢液處理裝置出口端通過管道與過濾裝置入口端相連。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的離子膜電解蝕刻廢液的系統(tǒng)，其特征在于，還包括提銅裝置，所述提銅裝置外接于所述離子膜電解槽陰極部分，用于提取陰極部分電解析出的高純度金屬銅。