[發明專利]一種寬帶寬高斯型低反光纖光柵的刻寫方法

在審

• 申請號: 201810511600.2
• 申請日: 2018-05-25
• 公開（公告）號: CN108732677A
• 公開（公告）日: 2018-11-02
• 發明（設計）人: 沈華;舒劍;朱日宏;矯苛蓉;關智文
• 申請（專利權）人: 南京理工大學
• 主分類號: G02B6/02
• 分類號: G02B6/02
• 代理公司: 南京理工大學專利中心 32203
• 代理人: 朱沉雁

1.一種寬帶寬高斯型低反光纖光柵的刻寫方法，其特征在于，方法步驟如下：

第一步，搭建寬帶寬高斯型低反光纖光柵的刻寫裝置，轉入第二步：

所述寬帶寬高斯型低反光纖光柵的刻寫裝置包括準分子紫外激光器（1）、第一反射鏡（2）、第二反射鏡（3）、第一柱面鏡（4）、第二柱面鏡（5）、電控平移臺（6）、相位掩膜板（7）和光纖支架（8），共光軸依次設置第二反射鏡（3）、第一柱面鏡（4）、第二柱面鏡（6）和相位掩膜板（7），第一柱面鏡（4）的軸水平放置，第二柱面鏡（5）的軸豎直放置，第二柱面鏡（5）通過傾斜臺固定在電控平移臺（6）上，第二反射鏡（3）位于第一反射鏡（2）的反射光路上，準分子紫外激光器（1）位于第一反射鏡（2）的入射光路上，光纖水平固定在緊貼相位掩膜板（7）的光纖支架（8）上且位于入射光線的相反方向，光譜儀通過跳線連接光纖的一端，采集光纖的反射光譜數據，電控平移臺（6）通過計算機控制；

第二步，打開準分子紫外激光器（1），準分子紫外激光器（1）發出紫外光束，經第一反射鏡（2）反射至第二反射鏡（3），經第二反射鏡（3）反射至第一柱面鏡（4），經第一柱面鏡（4）將光束縱向聚焦至第二柱面鏡（5），再經第二柱面鏡（5）將光束橫向聚焦至相位掩膜板（7），并入射至光纖，光纖纖芯吸收紫外光折射率發生變化，形成光柵，通過跳線將數據傳輸到光譜儀上，同時將數據實時反饋至計算機，轉入第三步；

第三步，判斷光譜儀所接收光譜帶寬是否為所需帶寬數值，若不是，計算機控制電控平移臺（6），轉入第四步；

第四步，電控平移臺（6）接收信號并調整第二柱面鏡（5），改變紫外激光光束在水平方向上的聚焦度，使得光譜儀接收的光譜帶寬達到所需帶寬數值。

2.根據權利要求1所述的寬帶寬高斯型低反光纖光柵的刻寫方法，其特征在于：第一步中，所述第一反射鏡（2）和第二反射鏡（3）均采用鍍紫外增反膜的反射鏡。

3.根據權利要求1所述的寬帶寬高斯型低反光纖光柵的刻寫方法，其特征在于：第一步中，所述第二柱面鏡（5）能夠沿紫外光束傳輸方向移動。