[發明專利]一種確定模體中標記物位置的方法和系統

有效

• 申請號: 201810496904.6
• 申請日: 2018-05-22
• 公開（公告）號: CN108937987B
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發明（設計）人: 楊宏成;J·S·墨子
• 申請（專利權）人: 上海聯影醫療科技股份有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種確定模體中標記物位置的方法，適于確定標記物在第一坐標系下的標記物位置，所述方法包括以下步驟：

在將模體放置在成像系統的射線源和探測器之間時，對于所述模體所處的第二坐標系下多個位置中的每一位置：

獲取所述模體在所述成像系統的多個機架角度下的投影圖像；以及

對于每個機架角度下的投影圖像，處理所述投影圖像以檢測所述模體中的標記物在第三坐標系下的投影位置；

獲取所述模體所處的第二坐標系下所述多個位置中至少一對位置間的位置差；

根據所述模體所處的第二坐標系下所述至少一對位置間的位置差以及所述模體中的標記物在第三坐標系中的第一投影位置組，計算所述標記物在第一坐標系中的標記物位置，其中所述第一投影位置組包括所述模體在所述至少一對位置的每一位置處、多個機架角度中每一機架角度下的投影位置；

其中所述第一坐標系與所述模體相關，所述第二坐標系與所述成像系統相關，所述第三坐標系與所述成像系統的探測器相關。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，根據所述模體所處的第二坐標系下所述至少一對位置間的位置差以及所述模體中的標記物在第三坐標系中的第一投影位置組，計算所述標記物在第一坐標系中的標記物位置的步驟包括：

根據所述模體在所述第二坐標系下至少一對位置間的位置差以及所述第一投影位置組，確定每一機架角度下的投影矩陣；

根據所述標記物在所述第三坐標系中的第二投影位置組、所述投影矩陣，計算所述標記物在所述第一坐標系中的標記物位置，其中所述第二投影位置組包括所述模體在所述第二坐標系下的其中一位置處，多個機架角度中每一機架角度下的投影位置。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，確定每一機架角度下的投影矩陣的步驟包括：

根據所述模體所處的第二坐標系下所述多個位置的至少一對位置間的位置差，確定所述模體的多個標記物中的各個標記物在第二坐標系下所述至少一對位置間的標記物位置差；

在各個機架角度下，將所述各個標記物在第二坐標系下所述至少一對位置間的標記物位置差、所述各個標記物在第三坐標系中的投影位置、所述機架角度下的投影矩陣建立方程組；

聯立所述各個標記物所對應的方程組；

求解聯立方程組以確定各個機架角度下的投影矩陣。

4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一坐標系和所述第二坐標系重合。

5.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，根據所述的標記物在第三坐標系中的第二投影位置組、所述投影矩陣，計算所述標記物在第一坐標系中的標記物位置的步驟包括：

根據從所述第一投影位置組中選取的所述第二投影位置組、所述投影矩陣，計算所述標記物在所述第二坐標系中的標記物位置；

根據所述第一坐標系和所述第二坐標系的映射關系，將所述標記物在所述第二坐標系中的標記物位置轉換為所述標記物在所述第一坐標系中的標記物位置。

6.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，根據所述的標記物在第三坐標系中的第二投影位置組、所述投影矩陣，計算所述標記物在第一坐標系中的標記物位置的步驟包括在所述模體被移動到使得所述第一坐標系與所述第二坐標系重合的情況下：

獲取所述模體在所述成像系統的多個機架角度下的投影圖像；

對于每個機架角度下的投影圖像，處理所述投影圖像以檢測所述模體中的標記物在所述第三坐標系下的投影位置，作為所述第二投影位置組；

根據所述第二投影位置組、所述投影矩陣，計算所述標記物在第一坐標系中的標記物位置。

7.根據權利要求1-5任一項所述的方法，其特征在于，是在所述成像系統的幾何校正過程中執行。

8.一種確定模體中標記物位置的系統，包括：

存儲器，用于存儲可由處理器執行的指令；

處理器，用于執行所述指令以實現如權利要求1-7任一項所述的方法。