[發明專利]烙鐵頭清潔裝置及清潔方法

在審

• 申請號: 201810496374.5
• 申請日: 2018-05-22
• 公開（公告）號: CN108672877A
• 公開（公告）日: 2018-10-19
• 發明（設計）人: 白云春;馬錄俊
• 申請（專利權）人: 昆山龍騰光電有限公司
• 主分類號: B23K3/08
• 分類號: B23K3/08
• 代理公司: 北京成創同維知識產權代理有限公司 11449
• 代理人: 蔡純;范芳茗

1.一種烙鐵頭清潔裝置，其特征在于，包括：

箱體，所述箱體上設有通孔，烙鐵頭通過所述通孔伸入所述箱體內部；

清潔裝置，位于所述箱體內部，所述烙鐵頭伸入所述箱體內部時與所述清潔裝置接觸以去除所述烙鐵頭上的廢料；

廢料存儲裝置，可拆卸地安裝于所述箱體內部，設置在清潔裝置下方，用于容納清潔裝置從烙鐵頭上去除的廢料；

供水裝置，安裝在所述箱體上，位于所述清潔裝置上方，用于給所述清潔裝置供水；

控制電路，與所述清潔裝置和供水裝置相連，用于控制清潔裝置和供水裝置工作。

2.根據權利要求1所述的烙鐵頭清潔裝置，其特征在于，所述清潔裝置包括彼此相對設置的兩個滾輪，每個所述滾輪的外表面設有海綿，所述兩個滾輪用于在所述控制電路的控制下按照彼此相反的方向轉動來去除烙鐵頭上的廢料。

3.根據權利要求2所述的烙鐵頭清潔裝置，其特征在于，所述廢料存儲裝置設置成抽屜式結構；所述海綿包括垂直固定于每個滾輪外表面的多個海綿塊。

4.根據權利要求1所述的烙鐵頭清潔裝置，其特征在于，所述供水裝置包括：

水箱，安裝在所述箱體上方，

水管，安裝在所述箱體內部，位于所述清潔裝置上方，與所述水箱連通，所述水管上設有出水口，使得水箱中的水經由水管從所述出水口下落到所述清潔裝置上；

水流控制開關，設置在所述出水口處，用于在所述控制電路的控制下調節水流速度。

5.根據權利要求1所述的烙鐵頭清潔裝置，其特征在于，還包括：

烙鐵架，固定于所述箱體側面，用于放置所述烙鐵頭；以及

透氣窗格，位于所述箱體的至少一側表面上。

6.根據權利要求1所述的烙鐵頭清潔裝置，其特征在于，還包括：激光傳感器組，位于所述箱體內，與所述控制電路相連，當烙鐵頭伸入所述箱體時從所述激光傳感器組之間經過，以檢測所述烙鐵頭是否伸入所述箱體內；

所述控制電路還用于當所述激光傳感器組檢測到所述烙鐵頭伸入所述箱體中時啟動所述清潔裝置。

7.根據權利要求1所述的烙鐵頭清潔裝置，其特征在于，還包括：濕度傳感器，位于所述清潔裝置下方，與所述控制電路相連，用于檢測所述清潔裝置的濕度；所述控制電路根據所述濕度傳感器檢測到的濕度來控制水流控制開關調節水流速度。

8.一種烙鐵頭清潔方法，由權利要求1至7中任一項所述的烙鐵頭清潔裝置執行，其特征在于，所述烙鐵頭清潔方法包括：

當烙鐵頭伸入箱體內部時啟動清潔裝置；以及

根據所述清潔裝置的濕度控制供水裝置給所述清潔裝置供水。

9.根據權利要求8所述的烙鐵頭清潔方法，其特征在于，所述啟動清潔裝置包括：

當烙鐵頭伸入箱體內部時，清潔裝置內部的滾輪帶動海綿開始轉動，清潔烙鐵頭。

10.根據權利要求8所述的烙鐵頭清潔方法，其特征在于，所述清潔裝置的濕度控制供水裝置給所述清潔裝置供水包括：

所述清潔裝置的濕度未達到設定值時，供水裝置內部的水流控制開關開啟或增大開啟程度，水流速度增大；

所述清潔裝置的濕度達到設定值時，供水裝置內部的水流控制開關關閉或減小開啟程度，水流速度增大。