[發明專利]一種氧化鋯氧分析儀鉑電極保護涂層及其制備方法

在審

• 申請號: 201810492834.7
• 申請日: 2018-05-22
• 公開（公告）號: CN108585931A
• 公開（公告）日: 2018-09-28
• 發明（設計）人: 沙順萍;趙璐;向蘭翔;周欣燕;李云
• 申請（專利權）人: 中國原子能科學研究院
• 主分類號: C04B38/06
• 分類號: C04B38/06;C04B35/48;C04B35/622
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種氧化鋯氧分析儀鉑電極保護涂層，其特征在于：制備所述保護涂層的原料包括水性溶劑和固體原料，所述固體原料按重量百分比含有30-50％的氧化鋯，5-10％的氧化鋁，20-30％的鎂鋁尖晶石，5-10％的氧化鋅，10-15％的無機粘結劑以及5-10％的造孔劑。

2.根據權利要求1所述的保護涂層，其特征在于：所述的保護涂層的孔隙率為55-65％。

3.根據權利要求1所述的保護涂層，其特征在于：所述的保護涂層的厚度為200-300μm。

4.根據權利要求1所述的保護涂層，其特征在于：所述的氧化鋯的平均粒度為5-10μm，所述的氧化鋁的平均粒度為50-100μm，所述的鎂鋁尖晶石的平均粒度為50-100μm，所述的氧化鋅的平均粒度為50-100μm。

5.根據權利要求1所述的保護涂層，其特征在于：所述的無機粘結劑選自磷酸鋁、磷酸二氫鋁、磷酸鎂、磷酸鋅、氧化鑭、氧化鈰中的任意一種或幾種的組合。

6.根據權利要求1所述的保護涂層，其特征在于：所述的造孔劑選自淀粉、糊精、活性炭中的任意一種或幾種的組合。

7.根據權利要求1所述的保護涂層，其特征在于：所述的氧化鋯為氧化釔全穩定氧化鋯。

8.根據權利要求1所述的保護涂層，其特征在于：所述的水性溶劑為水。

9.一種根據權利要求1-8中任意一項所述的保護涂層的制備方法，其特征在于，所述的制備方法包括如下步驟：

(1)將氧化鋯、氧化鋁、鎂鋁尖晶石、氧化鋅、無機粘結劑、造孔劑和水性溶劑混合均勻，并靜置12小時以上得到涂層漿料；

(2)將所述的涂層漿料涂覆于涂有鉑電極的試管狀氧化鋯基體內表面后靜置至干燥；

(3)將干燥后的涂層經升溫加熱處理，冷卻后得到所述的保護涂層。

10.根據權利要求9所述的制備方法，其特征在于，步驟(3)中，所述的升溫加熱處理的程序為：

以2-3℃/min的升溫速率升溫至200℃，保溫1-1.5h；

以5-10℃/min的升溫速率升溫至500℃；

以10-15℃/min的升溫速率升溫至900-1000℃，保溫1-1.5h。