[發(fā)明專利]一種晶圓濕法刻蝕系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810491385.4
• 申請日: 2018-05-21
• 公開（公告）號: CN108682639B
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳濤;王康
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇明芯微電子股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/677;H01L21/683
• 代理公司: 廣州高炬知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44376
• 代理人: 鄭為光

本發(fā)明屬于濕法刻蝕技術(shù)領(lǐng)域，具體的說是一種晶圓濕法刻蝕系統(tǒng)，包括移動模塊、抓取模塊、一號反應(yīng)槽、二號反應(yīng)槽、三號反應(yīng)槽和儲料筒，反應(yīng)倉內(nèi)壁底表面固定安裝有一號反應(yīng)槽、二號反應(yīng)槽和三號反應(yīng)槽；移動模塊固定安裝在反應(yīng)倉內(nèi)壁的側(cè)表面頂部；抓取模塊安裝在移動模塊上，儲料筒用于存放晶圓；抓取模塊用于對儲料筒進(jìn)行抓取；儲料筒從進(jìn)料門輸送至反應(yīng)倉中；移動模塊通過與抓取模塊配合將儲料筒中的晶圓，依次放入三號反應(yīng)槽、二號反應(yīng)槽和一號反應(yīng)槽中刻蝕；最后儲料筒中的晶圓通過出料門被取出；本發(fā)明主要用于對晶圓進(jìn)行刻蝕,能夠提高刻蝕液的使用效率，能夠?qū)A進(jìn)行批量化刻蝕，提高了刻蝕效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于濕法刻蝕技術(shù)領(lǐng)域，具體的說是一種晶圓濕法刻蝕系統(tǒng)。

背景技術(shù)

半導(dǎo)體制造技術(shù)中經(jīng)常會用到各種刻蝕工藝，其中濕法刻蝕工藝主要是采用反應(yīng)液對刻蝕物進(jìn)行去除的刻蝕技術(shù)，具體為通過反應(yīng)液與刻蝕物進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，使刻蝕物部分脫離晶圓表面，這樣在晶圓上得到了所需要的表面。但是，晶圓的批量化生產(chǎn)中需要消耗大量的刻蝕液，如果能夠?qū)涛g液的利用進(jìn)行改進(jìn)，則能夠提高生產(chǎn)成本。

現(xiàn)有技術(shù)中也出現(xiàn)了一些濕法刻蝕裝置的技術(shù)方案，如申請?zhí)枮?01420593668.7的一項(xiàng)中國專利公開了一種濕法刻蝕裝置，所述裝置至少包括：腐蝕槽以及至少兩個過濾器；所述腐蝕槽與每個過濾器通過第一、第二管道連接；所述第一、第二管道上分別對應(yīng)設(shè)有第一、第二閥門；所述第一閥門與所述過濾器之間設(shè)有與所述第一管道相通的進(jìn)液管；所述第二閥門與所述過濾器之間設(shè)有與所述第二管道相通的出液管。該技術(shù)方案雖然能夠延長腐蝕槽的使用壽命，但是，該技術(shù)方案不能提高刻蝕液的使用效率，造成了成本的浪費(fèi)，同時，該方案不能實(shí)現(xiàn)批量化自動生產(chǎn)；使得該發(fā)明受到了限制。

發(fā)明內(nèi)容

為了彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提出了一種晶圓濕法刻蝕系統(tǒng)，本發(fā)明主要用于對晶圓進(jìn)行刻蝕,能夠提高刻蝕液的使用效率，能夠?qū)A進(jìn)行批量化刻蝕；本發(fā)明通過一號反應(yīng)槽、二號反應(yīng)槽和三號反應(yīng)槽配合來對晶圓進(jìn)行分級刻蝕；通過移動模塊、抓取模塊和儲料筒配合來對晶圓進(jìn)行批量化刻蝕；提高了晶圓的刻蝕效率。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：本發(fā)明提出了一種晶圓濕法刻蝕系統(tǒng)，包括反應(yīng)倉，反應(yīng)倉中設(shè)有進(jìn)料門和出料門；其中，反應(yīng)倉不是本發(fā)明的創(chuàng)新之處，在此不作贅述。還包括移動模塊、抓取模塊、一號反應(yīng)槽、二號反應(yīng)槽、三號反應(yīng)槽和儲料筒，所述反應(yīng)倉內(nèi)壁底表面固定安裝有一號反應(yīng)槽、二號反應(yīng)槽和三號反應(yīng)槽；所述移動模塊固定安裝在反應(yīng)倉內(nèi)壁的側(cè)表面頂部；所述抓取模塊安裝在移動模塊上，所述儲料筒用于存放晶圓；抓取模塊用于對儲料筒進(jìn)行抓取；工作時，儲料筒從進(jìn)料門輸送至反應(yīng)倉中；移動模塊通過與抓取模塊配合將儲料筒中的晶圓，依次放入三號反應(yīng)槽、二號反應(yīng)槽和一號反應(yīng)槽中刻蝕；最后儲料筒中的晶圓通過出料門被取出；

所述一號反應(yīng)槽通過一號電磁閥與二號反應(yīng)槽連接；所述二號反應(yīng)槽通過二號電磁閥與三號反應(yīng)槽連接；所述三號反應(yīng)槽的內(nèi)壁上設(shè)有三號噴頭、其用于將二號反應(yīng)槽中的刻蝕液噴射到三號反應(yīng)槽中的儲料筒上；所述二號反應(yīng)槽的內(nèi)壁上設(shè)有二號噴頭、其用于將一號反應(yīng)槽中的刻蝕液噴射到二號反應(yīng)槽中的儲料筒上；二號噴頭和三號噴頭用于對晶圓表面殘留的雜質(zhì)進(jìn)行清理，同時，提高了刻蝕液的利用率；工作時，一號反應(yīng)槽、二號反應(yīng)槽和三號反應(yīng)槽均裝有相同純度的刻蝕液，儲料筒依次在三號反應(yīng)槽、二號反應(yīng)槽和一號反應(yīng)槽中進(jìn)行超聲波刻蝕，其用于將晶圓表面的氣泡和雜質(zhì)抖除；當(dāng)移動模塊和抓取模塊配合將儲料筒提起的過程中；二號噴頭和三號噴頭分別對儲料筒進(jìn)行噴淋，用于對晶圓表面的雜質(zhì)進(jìn)行清理。

所述儲料筒包括三號筒體，一號支撐架，夾持板和儲料板；所述夾持板通過一號支撐架固定安裝在三號筒體的頂表面，夾持板形狀為圓環(huán)形，夾持板用于配合抓取模塊使用；所述儲料板設(shè)于三號筒體的內(nèi)壁上，儲料板能夠從三號筒體內(nèi)壁上拆卸；儲料板用于存放晶圓；所述三號筒體的表面設(shè)有三號開口；三號開口用于將刻蝕液輸送至儲料板上；