[發(fā)明專利]一種高衍射效率光柵結構和制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810491052.1 | 申請日： | 2018-05-21 |
| 公開（公告）號： | CN108802881B | 公開（公告）日： | 2022-03-08 |
| 發(fā)明（設計）人： | 李朝明;陳新榮;李曉陽;虞健;程于水;王銳;吳建宏 | 申請（專利權）人： | 蘇州大學 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 蘇州創(chuàng)元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人： | 陶海鋒 |
| 地址： | 215137 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 衍射 效率 光柵 結構 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種高衍射效率光柵結構，其特征在于：在一維光柵的柵齒和柵谷上分別進行微納結構圖形調控，獲得多維層疊光柵結構，其中微納結構圖形的尺寸參數(shù)利用電磁場理論計算獲得以提高光柵的-1級衍射效率。
2.根據(jù)權利要求1 所述的高衍射效率光柵結構，其特征在于：所述微納結構圖形為一維光柵。
3.一種權利要求1所述高衍射效率光柵的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
（1）在光柵基材上涂布感光材料，利用光刻的方法記錄第一組一維光柵圖形，經(jīng)顯影，獲得一維光柵掩膜結構；利用離子刻蝕方法，將光柵掩膜結構轉移到光柵基材上，獲得一維光柵；
（2）將步驟（1）中獲得的所述一維光柵再次涂布感光材料，利用光刻的方法，記錄下第二組一維光柵圖形，經(jīng)顯影，獲得多維光柵掩膜結構；利用離子刻蝕方法，將光柵掩膜結構轉移到光柵基材上，最終獲得多維層疊結構光柵。
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