[發明專利]可調諧焦平面陣列器件及其制備方法

有效

• 申請號: 201810488576.5
• 申請日: 2018-05-21
• 公開（公告）號: CN108646404B
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 張衛;鄭亮;陳琳;孫清清
• 申請（專利權）人: 復旦大學
• 主分類號: G02B26/08
• 分類號: G02B26/08;G03F7/00
• 代理公司: 上海正旦專利代理有限公司 31200
• 代理人: 陸飛;陸尤

本發明屬于半導體器件技術領域，具體為一種可調諧焦平面陣列器件及其制備方法。本發明制備方法的步驟為：在襯底上制作焦平面陣列；將所述焦平面陣列從襯底上分離；形成半球形聚合物轉移支撐襯底；將所述焦平面陣列轉移至所述半球形聚合物轉移支撐襯底上，并進行封裝；以及將所述封裝后的焦平面陣列粘貼到可變曲率鏡面的上表面，通過在所述可變曲率鏡面背面的中間位置施加作用力，使所述焦平面陣列可調諧。本發明能夠使焦平面陣列器件的形變呈球形形變，從而提升光學系統性能的提升，排除其他不規則形變導致的性能損失。

技術領域

本發明屬于半導體器件技術領域，具體涉及一種可調諧焦平面陣列器件及其制備方法。

背景技術

近年來，對于柔性電子器件的研究興趣與日俱增，尤其是在光電系統領域。光學系統的功能是將環境中的光線傳遞給傳感器，但是光學系統普遍存在著畸變，尤其是佩茲瓦爾像場彎曲會導致寬視場中焦平面的彎曲。為了消除這些因素的影響，需要更復雜的設計以及更多的透鏡，但是這樣一來又會降低成像質量。

通過直接彎曲焦平面陣列，會消除佩茲瓦爾像場彎曲現象，簡化光學系統的設計，提高成像質量。然而，要將焦平面陣列盡可能的彎曲成理想的球形面是非常困難的。

發明內容

為了解決上述問題，本發明提供一種可調諧焦平面陣列器件及其制備方法。

本發明提供的可調諧焦平面陣列器件制備方法，包括以下步驟：

在襯底上制作焦平面陣列；

將所述焦平面陣列從襯底上分離；

形成半球形聚合物轉移支撐襯底；

將所述焦平面陣列轉移至所述半球形聚合物轉移支撐襯底上，并進行封裝；以及

將所述封裝后的焦平面陣列粘貼到可變曲率鏡面的上表面，通過在所述可變曲率鏡面背面的中間位置施加作用力，使所述焦平面陣列可調諧。

本發明的制備方法中，優選為，所述襯底為絕緣體上硅。

本發明的制備方法中，優選為，所述聚合物為聚二甲基硅氧烷。

本發明的制備方法中，優選為，所述將焦平面陣列從襯底上分離，具體包括以下子步驟：

旋涂光刻膠，曝光出器件間的刻蝕區域；

通過反應離子刻蝕表面硅露出氧化硅層；

在濃縮的氫氟酸溶液中浸泡，刻蝕氧化硅層；

去除光刻膠，然后在晶片表面旋涂高分子聚合物，并使其充滿刻蝕所形成的空洞區；

在所述高分子聚合物凝聚成形之后，刻蝕出互連圖形，淀積金屬互連線，在隔離的器件間建立互連；

刻蝕硅通孔，建立濕法刻蝕氧化硅層的通道；以及

繼續在濃縮的氫氟酸溶液中浸泡，刻蝕剩余氧化硅層，完成分離步驟。

本發明的制備方法中，優選為，所述將焦平面陣列轉移至所述半球形聚合物轉移支撐襯底上，具體操作流程為：將所述半球形聚合物轉移支撐襯底均勻拉伸為平坦狀，然后將所述焦平面陣列轉移到其上，利用范德瓦爾斯相互作用使它們粘連在一起，然后使所述聚合物轉移支撐襯底復原為半球形。

本發明的備方法中，優選為，所述通過在可變曲率鏡面背面的中間位置施加作用力，使所述焦平面陣列可調諧，是把所述可變曲率鏡面背面的中間位置與激勵裝置相連接，通過激勵施加推力或者拉力，使所述焦平面陣列可調諧。