[發(fā)明專利]一種開環(huán)式測量射氣介質(zhì)氡析出率的方法和裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810487714.8 | 申請日: | 2018-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN108897031B | 公開(公告)日: | 2020-02-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葉勇軍;陳光玲;王忠琨;黃俊堯;丁德馨;余修武 | 申請(專利權(quán))人: | 南華大學(xué) |
| 主分類號: | G01T1/167 | 分類號: | G01T1/167 |
| 代理公司: | 長沙正奇專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 43113 | 代理人: | 張珉瑞;蔣尊龍 |
| 地址: | 421001 *** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 開環(huán) 測量 介質(zhì) 析出 方法 裝置 | ||
1.一種開環(huán)式測量射氣介質(zhì)氡析出率的方法,該方法使用以下裝置進(jìn)行氡析出率的測量:該裝置包括測氡儀,測氡儀的進(jìn)氣口通過氣管與集氣罩連通,測氡儀的出氣口與外界環(huán)境連通,在集氣罩的上表面設(shè)與外界環(huán)境連通的孔,其特征在于,該裝置還包括用于盛裝待測射氣介質(zhì)的試驗(yàn)柱,所述集氣罩設(shè)于所述試驗(yàn)柱的上方,試驗(yàn)柱的下方設(shè)氣體均壓室,氣體均壓室通過氣管連接氣體泵,氣體均壓室與氣體泵之間的氣管上設(shè)有流量調(diào)節(jié)器;該方法包括以下步驟:
(1)打開氣體泵,通過流量調(diào)節(jié)器控制進(jìn)入氣體均壓室的滲流流量為q1;用測氡儀測量出外界環(huán)境中的氡濃度C0作為集氣罩在零時(shí)刻的氡濃度為C0,當(dāng)開始測量集氣罩里的氡濃度時(shí),每過相同的時(shí)間間隔△T,依次記錄此時(shí)刻下的氡濃度C1、C2、C3、……、Cn(n≥5);
(2)利用上述測量值擬合以下微分方程的解,計(jì)算氡析出率J;
當(dāng)試驗(yàn)柱內(nèi)的滲流方向向下時(shí),微分方程為
當(dāng)試驗(yàn)柱內(nèi)的滲流方向向上時(shí),微分方程為
其中,C為集氣罩中氡濃度,單位為Bq/m3;t為氡析出的時(shí)間,單位為s;V為集氣罩的空間體積,單位為m3;S為集氣罩的橫截面積,單位為m2;J為射氣介質(zhì)表面氡析出率,單位為Bq(m-2·s-1);λe為氡的等效衰變常數(shù),單位為s-1;q和q1分別為進(jìn)入測氡儀的氣體流量和試驗(yàn)柱內(nèi)的氣體滲流流量,單位均為m3/s。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,當(dāng)試驗(yàn)柱內(nèi)的滲流方向向下時(shí),解上述微分方程得:
令則:C=A1+e-B1t(C0-A1)
利用上述測量值對C=A1+e-B1t(C0-A1)進(jìn)行擬合,得到A1和B1的值,再代入中,計(jì)算氡析出率J。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,當(dāng)試驗(yàn)柱內(nèi)的滲流方向向上時(shí),解上述微分方程得:
令
則:C=A2+e-B2t(C0-A2)
利用上述測量值對C=A2+e-B2t(C0-A2)進(jìn)行擬合,得到A2和B2的值,再代入中,計(jì)算氡析出率J。
4.如權(quán)利要求2或3所述的方法,其特征在于,利用最小二乘法進(jìn)行擬合。
5.一種用于開環(huán)式測量射氣介質(zhì)氡析出率的裝置,包括測氡儀(5)、用于盛裝待測射氣介質(zhì)的試驗(yàn)柱(7),試驗(yàn)柱(7)的上方設(shè)集氣罩(6),測氡儀(5)的進(jìn)氣口通過氣管與集氣罩(6)連通,測氡儀(5)的出氣口與外界環(huán)境連通,其特征在于,在集氣罩(6)的上表面設(shè)與外界連通的孔(4),試驗(yàn)柱(7)的下方設(shè)氣體均壓室(8),氣體均壓室(8)通過氣管連接氣體泵(10),氣體均壓室(8)與氣體泵(10)之間的氣管上設(shè)有流量調(diào)節(jié)器(11)。
6.如權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,氣管上均設(shè)有氣體流量計(jì)(3)。
7.如權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,氣體均壓室(8)上設(shè)有進(jìn)氣口(9),氣體泵(10)通過氣管與進(jìn)氣口(9)連通,進(jìn)氣口(9)位于氣體均壓室(8)的側(cè)面或底面。
8.如權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,氣體均壓室(8)內(nèi)填充顆粒狀的填料,進(jìn)氣口位于氣體均壓室(8)的底面。
9.如權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,所述孔(4)的面積占集氣罩的上表面積的1-10%。
10.如權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,試驗(yàn)柱(7)的橫截面積固定。
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