[發明專利]減反層及其制作方法、顯示裝置在審
| 申請號： | 201810487273.1 | 申請日： | 2018-05-21 |
| 公開（公告）號： | CN108693575A | 公開（公告）日： | 2018-10-23 |
| 發明（設計）人： | 胡海峰;曾亭;張明;丁賢林;馬偉杰 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B1/18 | 分類號： | G02B1/18;G02B1/11;G09F9/00 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;陳源 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 減反層 材料層 疏水處理 顯示裝置 微凸起 基板 表面形貌 耐研磨性 顯示產品 預定規則 疏水性 膜層 排布 疏水 制作 背離 | ||
1.一種減反層的制作方法，其特征在于，包括：
在基板上形成減反材料層；
對所述減反材料層背離所述基板的表面進行疏水處理，以在所述減反材料層上形成呈預定規則排布的多個微凸起，經過疏水處理后的減反材料層即為所述減反層；其中，所述微凸起沿任意方向的尺寸均小于30nm。
2.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在基板上形成減反材料層的步驟中，所述減反材料層的厚度大于目標厚度；
所述疏水處理包括：
對所述減反材料層進行研磨，直至所述減反材料層達到目標厚度。
3.根據權利要求2所述的制作方法，其特征在于，對所述減反材料層進行研磨的步驟包括：沿預定方向，采用金屬布或拋光液對所述減反材料層進行研磨。
4.根據權利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述在基板上形成減反材料層的步驟中，所述減反材料層的厚度與所述目標厚度之差在10nm～100nm之間。
5.根據權利要求1至4中任意一項所述的制作方法，其特征在于，所述減反材料層包括交替疊置的第一膜層和第二膜層，所述微凸起形成在所述第一膜層上；
所述第一膜層為氧化硅層，所述第二膜層為氮化硅層或五氧化二鈮層。
6.根據權利要求1至4中任意一項所述的制作方法，其特征在于，在基板上形成減反材料層的步驟中，所述減反材料層采用鍍膜工藝形成。
7.一種減反層，包括設置在基板上的減反材料層，其特征在于，所述減反材料層背離所述基板的表面上形成有呈預定規則排布的多個微凸起，所述微凸起沿任意方向的尺寸均小于30nm。
8.根據權利要求7所述的減反層，其特征在于，所述減反材料層包括交替疊置的第一膜層和第二膜層，所述微凸起形成在所述第一膜層上；
所述第一膜層為氧化硅層，所述第二膜層為氮化硅層或五氧化二鈮層。
9.一種顯示裝置，包括顯示面板和設置在所述顯示面板出光側的減反層，其特征在于，所述減反層為權利要求7或8所述的減反層，所述減反材料層位于所述基板背離所述顯示面板的一側。
10.根據權利要求9所述的顯示裝置，其特征在于，所述減反層背離所述顯示面板的一側還設置有防指紋層。
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